专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种哈氏合金材料抛光方法-CN202110968856.8在审
  • 董兴玉;刘民 - 常州容导精密装备有限公司
  • 2021-08-23 - 2021-11-16 - B24B29/02
  • 本发明涉及一种哈氏合金材料抛光方法,包括如下步骤:S1、将哈氏合金材料部件固定安装在治具中;S2、在抛光机上用100#百叶轮对哈氏合金材料的表面进行粗抛处理;S3、使用P240‑P800尼龙轮对上述步骤S2抛光后的材料进行中抛处理;S4、用麻轮对上述步骤S3抛光后的材料进一步精抛处理,抛光过程中需不断向抛光轮上均匀涂覆氧化铝抛光膏;S5、换成羊毛轮对上述步骤S4抛光后的材料进行进一步镜抛处理,抛光过程中需不断向羊毛轮上涂覆颗粒度较小的二氧化硅抛光膏本发明方法抛光后材料表面粗糙度Ra≤0.04μm。
  • 一种合金材料抛光方法
  • [发明专利]一种大尺寸铁氧体基片及其抛光方法-CN202010630260.2有效
  • 孔伟;任仕晶;鲜聪;廖杨;陈建杰;袁红兰;冯涛;王谦 - 中国电子科技集团公司第九研究所
  • 2020-07-03 - 2021-06-29 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种大尺寸铁氧体基片及其抛光方法,属于微波技术领域,包括以下步骤:(A)配置直径为的板状结晶氧化铝抛光液;(B)将步骤(A)得到的氧化铝抛光液配合压缩纤维抛光垫对待抛光铁氧体基片进行第一轮抛光,得到半成品;(C)配置球状结晶氧化铝抛光液;(D)用步骤(C)得到的氧化铝抛光液配合阻尼布抛光垫对步骤(B)得到的半成品进行第二轮抛光,得到表面粗糙度为10nm~20nm的产品;本发明所得的大尺寸铁氧体基片可以提高光刻的加工效率,达到一次加工多片成品,其生产效率提高了数倍;本加工方法能满足铁氧体基片对表面平面度和光洁度的要求,同时能够大幅缩短抛光时间,减少在加工过程中的不稳定因素导致的产品破损。
  • 一种尺寸铁氧体及其抛光方法
  • [发明专利]一种汽车零件抛光方法-CN202111617024.8在审
  • 石琎婕 - 石琎婕
  • 2021-12-27 - 2022-03-18 - B24B29/02
  • 本发明涉及汽车生产技术领域,更具体的说是一种汽车零件抛光方法:该方法包括以下步骤步骤一:将汽车零件进行定位以及夹紧;步骤二:在汽车零件表面上喷洒用于抛光的清洁剂;步骤三:对汽车零件表面进行打磨抛光步骤四:将抛光之后的汽车零件表面进行烘干;所述汽车零件抛光方法还使用一种汽车零件抛光装置,所述装置包括多个打磨部,打磨部包括内杆、套在内杆上的抛光刷头和提供内杆滑动的套环,内杆上设置有凸缘,凸缘与套环之间设置有弹簧,本申请不需要主动寻找零件的各个位置便可以完成零件表面的抛光
  • 一种汽车零件抛光方法
  • [发明专利]一种基于改进遗传算法的陶瓷抛光机能耗优化方法-CN201810531088.8有效
  • 杨海东;刘汉勇;印四华 - 广东工业大学
  • 2018-05-29 - 2022-06-07 - G06F30/27
  • 一种基于改进遗传算法的陶瓷抛光机能耗优化方法,陶瓷抛光机能耗优化方法,包括以下步骤步骤A:构建并求解陶瓷抛光机能耗模型,根据陶瓷抛光机能耗模型的求解结果,得出影响陶瓷抛光机能耗的参数;所述陶瓷抛光机能耗模型包括切削形成能耗、抛光磨头能耗、传动滚筒能耗、横梁摆动能耗和辅助系统能耗;步骤B:改进自适应遗传算法,利用所述改进自适应遗传算法计算出影响陶瓷抛光机能耗的最优参数。本发明提出一种基于改进遗传算法的陶瓷抛光机能耗优化方法,精准得出影响陶瓷抛光机能耗的工艺参数,从而针对性的做出工艺参数优化,使得陶瓷抛光机在运作时到达最小能耗。
  • 一种基于改进遗传算法陶瓷抛光机能耗优化方法
  • [发明专利]一种铝制品的抛光方法-CN201510657762.3在审
  • 戴跃生;李华荣 - 深圳市沙特尔工业材料有限公司
  • 2015-10-13 - 2015-12-30 - C23F3/03
  • 本发明公开了一种铝制品的抛光方法,其特征在于,包括以下步骤步骤一,配制化学抛光液,按重量份数计:包括光亮剂3~12,缓蚀剂3~12,磷酸20~65,硫酸25~75,配成100份,所述光亮剂由1-4丁炔二醇和甘油组成,所述缓蚀剂由植酸和多聚磷酸组成;步骤二,将抛光液加热到85℃~120℃;步骤三,将干燥洁净的待抛光铝制品浸入步骤二中的抛光液中,浸泡20S~240S;步骤四,将步骤三中的铝制品取出后用60℃的去离子水水洗两次;步骤五,将步骤四中的铝制品取出后吹干。
  • 一种铝制品抛光方法
  • [发明专利]一种塑料扣具生产用成型模具加工方法-CN202110286517.1在审
  • 陈良根;邱南京 - 惠州标点扣具科技有限公司
  • 2021-03-17 - 2021-06-25 - B24B1/00
  • 本发明公开一种塑料扣具生产用成型模具加工方法,包括步骤一、下料粗处理;步骤二、电火花半成品加工;步骤三、高频震动粗抛光加工;步骤四、高频震动细打磨抛光加工;步骤五、氧化铝陶瓷涂层处理和步骤六、氧化铝陶瓷涂层表面高频震动精细抛光处理;本发明使用超声波震动箱内放入打磨抛光砂,并将模具零部件固定在震动箱中部,利用超声波高频震动使模具零件表面与打磨抛光砂快速高频摩擦实现打磨抛光,可将极小的凹凸图案周边及表面打磨抛光,保证了成型模具产品质量
  • 一种塑料生产成型模具加工方法
  • [发明专利]一种饰面板制件的超精抛光加工工艺-CN202011109508.7在审
  • 闵洪海 - 苏州宜效新材料科技有限公司
  • 2020-10-16 - 2021-03-16 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种饰面板制件的超精抛光加工工艺,包括以下步骤步骤一,粗抛光:选用200目的砂纸对饰面板制件的表面进行打磨;步骤二,擦水:选用棉布,蘸水擦拭饰面板制件的表面;步骤三,二次打磨:对擦拭后的饰面板进行风干,然后利用400目砂纸打磨;步骤四,擦酒精:采用粘性布蘸取有变性酒精进行擦拭;步骤五,超精抛光:采用3000砂纸打磨抛光步骤六,制备蜂蜡;根据饰面板所需的蜡纹进行调蜡;步骤七,烫蜡;烫蜡时间为1小时。本发明通过进行三次打磨抛光,除去表面的毛刺、木纤维、毛屑,实现精抛光,保证饰面板制件表面的光滑美观,然后进行上蜡,并使蜡完全浸入饰面板制件的内部,保证饰面板制件表面的光滑,增加饰面板制件美观程度。
  • 一种面板制件抛光加工工艺
  • [发明专利]一种非晶合金的抛光方法-CN202010273340.7在审
  • 梁广平;杨兴;董大伟;高宽 - 东莞市逸昊金属材料科技有限公司
  • 2020-04-09 - 2020-06-26 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种非晶合金的抛光方法,包括如下步骤步骤1:采用开粗抛光液,在开粗研磨盘上对非晶合金进行开粗;步骤2:采用第一中抛抛光液,在第一中抛研磨盘上对非金合金进行一次中抛;步骤3:采用第二中抛抛光液,在第二中抛研磨盘上对非晶合金进行二次中抛;步骤4:采用精抛抛光液,在精抛研磨盘上对非晶合金进行精抛。本发明提供了一种非晶合金的抛光方法,通过增设二次中抛步骤以修复在先步骤在非晶产品上留下的加工痕迹,缩短了精抛步骤的所需时长,因此避免了因精抛时间过长造成的产品性能受损。
  • 一种合金抛光方法
  • [发明专利]制造化学机械抛光垫的方法-CN200610172857.7有效
  • 保坂幸生;田野裕之;西村秀树;志保浩司 - JSR株式会社
  • 2006-09-15 - 2007-05-30 - B24D18/00
  • 本发明涉及一种制造化学机械抛光垫的方法,其提供了一种完全抑制被抛光表面上形成划痕且具有良好抛光速率的化学机械抛光垫。该方法包括(A)组步骤和(B)组步骤中的任一组,(A)组步骤至少包括以下(A1)至(A5)的步骤:(A1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(A2)将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成垫状体的步骤;(A3)将垫状体安装在切削机圆台上的步骤,该切削机至少具有装配有铣刀的铣削单元、能够标引角度并定位的驱动单元和通过驱动单元转动的圆台;(A4)用铣刀形成第二组槽的步骤;以及(A5)形成第一组槽的步骤,并且(B)组步骤至少包括以下(B1)至(B3)的步骤:(B1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(B2)通过使用具有相应于第二组槽形状的凸起的金属模型,将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成具有第二组槽的垫状体的步骤;以及(B3)形成第一组槽的步骤
  • 制造化学机械抛光方法

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