专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]静电保护器件-CN201010593664.5有效
  • 苏庆 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2010-12-17 - 2012-07-04 - H01L27/02
  • 本发明公开了一种静电保护器件,包括相邻的一个N阱和一个P阱,所述N阱中,形成有第一P+扩散、第二P+扩散、第一N+扩散;所述P阱中,形成有第三P+扩散、第四P+扩散、第三N+扩散;所述N阱中的第一P+扩散、第二P+扩散、第一N+扩散形成一PNP晶体管或一PMOS管,所述第一P+扩散及第一N+扩散短接用于接静电端;所述P阱中的第三P+扩散、第四P+扩散、第三N+扩散,第三P+扩散距离N阱最近,第三N+扩散次之,第四P+扩散距离N阱最远,第三P+扩散及第三N+扩散短接用于接地端,第四P+扩散及N阱中的第二P+扩散短接。
  • 静电保护器件
  • [实用新型]一种ESD保护器件-CN202122536041.0有效
  • 杨晓亮;李泽宏 - 济南市半导体元件实验所
  • 2021-10-21 - 2022-04-05 - H01L27/02
  • 本实用新型公开一种ESD保护器件,属于集成电路静电放电保护领域,包括N型单晶材料、P扩散、N+扩散和P+扩散,P扩散形成于N型单晶材料上,N+扩散包括形成于N型单晶材料上的第一N+扩散和形成于P扩散上的第二N+扩散、第三N+扩散,P+扩散包括形成于N型单晶材料上的第一P+扩散和形成于P扩散上的第二P+扩散,N+扩散和P+扩散的上方设有多个形成于相邻N+扩散和P+扩散之间的表面钝化层,多个表面钝化层上连接形成第一金属层、第二金属层、第三金属层;第一N+扩散和P扩散之间设有隔离槽。
  • 一种esd保护器件
  • [发明专利]一种基于力反馈技术的虚拟水墨扩散范围计算方法-CN201210235882.0有效
  • 侯增选;郭超;孙景华 - 大连理工大学
  • 2012-07-09 - 2012-12-19 - G06F19/00
  • 一种基于力反馈技术的虚拟水墨扩散范围计算方法,属于虚拟绘制技术领域,是在虚拟绘制中引入虚拟力影响系数,将扩散区分为深色扩散和浅色扩散,给出了深色扩散和浅色扩散扩散范围的计算方法,包括计算吸储量、计算深色扩散粒子量、计算深色扩散扩散范围、计算浅色扩散粒子量、计算浅色扩散扩散范围等步骤,计算出浅色扩散宽度2,从而得到虚拟力影响下的浅色扩散扩散范围。本发明在虚拟绘制中引入了力反馈技术,揭示了虚拟绘制过程中力对水墨扩散的影响机理,分别给出了深色扩散和浅色扩散扩散范围的计算方法,弥补了现有水墨扩散方法中未考虑力觉因素的不足,增强了虚拟绘制中水墨扩散仿真效果
  • 一种基于反馈技术虚拟水墨扩散范围计算方法
  • [发明专利]图像传感器-CN202210338610.7在审
  • 吴官泳;金美惠;朴东赫;朴智元;李承旭;李海源 - 三星电子株式会社
  • 2022-04-01 - 2022-10-18 - H01L27/146
  • 一种图像传感器包括:第一浮动扩散;第二浮动扩散,其在第一方向上与第一浮动扩散相邻;第三浮动扩散,其在垂直于第一方向的第二方向上与第一浮动扩散相邻;以及第四浮动扩散,其在第二方向上与第二浮动扩散相邻焊盘设置在第一浮动扩散和第二浮动扩散上。焊盘至少部分地与第一浮动扩散和第二浮动扩散重叠。图像传感器包括互连线以及将焊盘连接至互连线的第一接触件。焊盘的第一表面设置在第一浮动扩散和第二浮动扩散上。器件隔离图案限定第一浮动扩散、第二浮动扩散、第三浮动扩散和第四浮动扩散
  • 图像传感器
  • [发明专利]宽窄视角可切换的显示面板及显示装置-CN202210275828.2有效
  • 廖家德;刘显贺 - 昆山龙腾光电股份有限公司
  • 2022-03-21 - 2023-07-25 - G02F1/13
  • 本发明公开了一种宽窄视角可切换的显示面板及显示装置,该显示面板能够在宽视角和窄视角之间进行切换,显示面板具有显示以及位于显示周边缘的非显示,显示包括图案化的扩散和非扩散扩散对光线的散射能力相对于非扩散对光线的散射能力较强通过在宽窄视角可切换的显示面板上设置图案化的扩散和非扩散扩散对光线的散射能力强于非扩散对光线的散射能力,从而使得显示面板在窄视角时,扩散与非扩散的视角范围不相同,用户在大视角方位能够看见扩散扩散的光线,可以设计扩散的图案,使得在窄视角大视角方位能够看见与扩散对应的图案,而防窥视角范围内又可以看见显示的画面。
  • 宽窄视角切换显示面板显示装置
  • [发明专利]静电保护结构-CN201110103518.4有效
  • 苏庆 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2011-04-25 - 2012-10-31 - H01L27/02
  • 本发明公开了一种静电保护结构,包含一N阱,一P阱;N阱中形成有第一P+扩散、第二P+扩散、第一N+扩散、第二N+扩散,第一P+扩散、第二P+扩散构成一PMOS管;N阱中的二P+扩散之一、二N+扩散之一同所述PMOS管的栅极短接用于接静电端;P阱中形成有第三P+扩散、第四P+扩散、第三N+扩散、第四N+扩散,第三N+扩散、第四N+扩散构成一NMOS管;P阱中的二N+扩散之一、二P+扩散之一同所述NMOS管的栅极短接用于接地端;N阱中的另外一个N+扩散同P阱中的另外一个N+扩散短接;N阱中的另外一个P+扩散同P阱中的另外一个P+扩散短接。
  • 静电保护结构
  • [发明专利]单元和半导体器件-CN200710001254.5有效
  • 中西和幸 - 松下电器产业株式会社
  • 2007-01-11 - 2007-07-25 - H01L27/02
  • 本发明公开了一种单元,该单元包括多个扩散对,每个扩散对由作为晶体管的组成部分的第一掺杂扩散、以及第二掺杂扩散构成,使得第一掺杂扩散和第二掺杂扩散在栅极长度方向上并排设置,并且在两者之间插入有器件隔离在每个扩散对中,第一掺杂扩散和第二掺杂扩散在栅极宽度方向上具有相同的长度,并且被设置在栅极宽度方向上的相同位置处;作为器件隔离在第一掺杂扩散和第二掺杂扩散之间的部分的第一隔离部分具有恒定的间隔长度在所述扩散对中,第一隔离部分具有相同的间隔长度。
  • 单元半导体器件
  • [发明专利]半导体器件-CN200710169322.9有效
  • 寺岛知秀 - 三菱电机株式会社
  • 2007-11-22 - 2008-10-15 - H01L27/06
  • 在n-型半导体(3)中,形成成为漏的n-扩散(5),在该n-扩散(5)的一侧,形成p扩散(7)和成为源的n+扩散(8)。在n-扩散(5)的另一侧,形成沟槽部(10),充填绝缘体(12)。在n-扩散(5)的正下方,形成p-埋层(13)。在n-型半导体(3)的区域,形成施加高电位的n+扩散(14),用具有电阻(R)的布线(20)与n-扩散(5)进行电连接。在被n+扩散(8)和n-扩散(5)夹持的p扩散(7)的部分的表面上,隔着栅绝缘膜(19)形成栅电极(17)。
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体器件及其制备方法-CN201310661381.3在审
  • 张广胜;张森 - 无锡华润上华半导体有限公司
  • 2013-12-06 - 2015-06-10 - H01L29/06
  • 本发明提供一种半导体器件,包括衬底,衬底上的埋层,埋层上的扩散层及扩散层上的栅极;所述扩散层包括第一扩散和第二扩散,所述第二扩散的杂质类型与所述第一扩散的杂质类型相反;在所述第二扩散区内还形成有多个第三扩散,所述第三扩散的杂质类型与所述第二扩散的杂质类型相反。上述半导体器件,通过在第二扩散区内形成杂质类型相反的多个第三扩散,可以通过调整第三扩散的大小从而实现对第二扩散浓度的调节及控制,实现对半导体器件的阈值电压的控制,获得可变阈值的半导体器件。
  • 半导体器件及其制备方法
  • [实用新型]一种食品蒸气袋加工用耐高温检测装置-CN202022414564.3有效
  • 莫小伟 - 杭州宏畔纸塑包装有限公司
  • 2020-10-27 - 2021-07-27 - G01N25/00
  • 本实用新型公开了一种食品蒸气袋加工用耐高温检测装置,包括蒸气锅;存水区,存水区设置在蒸气锅内下部;储物桶,储物桶设置在存水区上方,且下半部分插入设置在蒸气锅内;蒸气扩散,蒸气扩散设置在存水区与储物桶之间;其中,蒸气扩散由一扩散装置阻断形成,蒸气扩散包括均匀扩散和侧扩散、侧扩散设置在均匀扩散的外侧;扩散装置包括设置在均匀扩散下方的扩散板和设置在侧扩散下方的镂空安装部,扩散板通过镂空安装部安装在蒸气锅内有益效果为:通过扩散装置使得蒸汽进入侧扩散、均匀扩散,增加了蒸汽进行流动性,使得蒸汽对于储物桶的加热更加的均匀,在节约成本的前提下提高了检测的精确度。
  • 一种食品蒸气工用耐高温检测装置
  • [发明专利]半导体设备及其制造方法-CN201110165559.6有效
  • 一条尚生;A.阿伯托;成濑一史 - 夏普株式会社
  • 2011-06-20 - 2011-12-21 - H01L29/861
  • 根据本发明的半导体设备包括:形成在半导体层上的第二传导类型的第一扩散;形成在第一扩散中的第一传导类型的第二扩散;形成在第二扩散中的第二传导类型的第一高浓度扩散和第一传导类型的第二高浓度扩散;第一扩散中的与第二扩散区分隔开给定距离的第二传导类型的第三高浓度扩散;以及形成在第一高浓度扩散和第三高浓度扩散上方并且处于二者之间的栅极电极,其间插入有栅极绝缘膜,其中所述栅极电极被形成为与第一高浓度扩散重叠,并且所述栅极电极在相同电位下与第一高浓度扩散和第二高浓度扩散电连接。
  • 半导体设备及其制造方法

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