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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202310017437.5在审
发明人：菅原由季;竹见崇 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置及成膜方法，当在成膜装置中进行多层成膜时，抑制成膜质量的降低。成膜装置具备一边移动一边在基板上进行成膜的蒸发源单元。在蒸发源单元的成膜时的移动方向上依次排列有第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源。移动方向上的第一蒸发源及第二蒸发源之间的距离比移动方向上的第二蒸发源及第三蒸发源之间的距离长。
装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202310302787.6在审
发明人：菅原由季;小野岛升 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种提高监视单元的监视精度的成膜装置及成膜方法。成膜装置具备：第一蒸镀源，其向基板放出蒸镀物质；第一监视部件，其监视来自第一蒸镀源的蒸镀物质的放出状态；第二蒸镀源，其向基板放出蒸镀物质；以及第二监视部件，其监视来自第二蒸镀源的蒸镀物质的放出状态，其中
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202180093627.4在审
发明人：中畑俊彦;桥本一义;山口晴正 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提高覆膜的台阶覆盖性。本发明使用具有第一电极、第二电极、第一供电源、第二供电源、相位调节器的成膜装置。
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN202310088366.8在审
发明人：石丸友纪;户田将也;高桥恒太;虎谷健一郎;松尾和展 -专利权人：铠侠股份有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明的实施方式涉及能够缩短成膜时间的成膜装置和成膜方法。实施方式的成膜装置具备：包含侧壁的腔室；设在腔室上部的喷淋头；设在腔室中并用于保持基板的保持器；向喷淋头供给第1气体的第1气体供给管；设在第1气体供给管上的第1阀；设在腔室的除喷淋头以外的区域上的气体供给部
装置方法

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201510131930.5有效
发明人：中岛直人;羽田浩二;吉野裕文 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2015-03-25 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高类金刚石膜的成膜效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(10)具有腔室(1)，在内部形成有处理空间(V)；低电感的电感耦合式天线(21)，配置于处理空间(V)；高频电力供给部(24)，向电感耦合式天线(21)间歇性地供给高频电力；气体供给部(3)，向处理空间(V)供给含有碳氢化合物的气体；相对移动部(4)，使作为成膜的对象物的基体材料(9)相对于电感耦合式天线(21)移动；电压施加部(5)，在暂时停止向电感耦合式天线(21)供给高频电力的时间段，
装置以及方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201510117064.4有效
发明人：铃木启介;村上博纪;菱屋晋吾;门永健太郎;小幡穣 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-03-17 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明提供成膜方法和成膜装置。在成膜方法中，在真空气氛中形成含有掺杂元素的薄膜，其包括以下工序：吸附工序，自原料气体供给部向成为真空气氛的处理容器内供给原料气体并使该原料气体的原料吸附在基板上；掺杂工序，多次重复自掺杂气体供给部向处理容器内供给含有掺杂元素的掺杂气体并将掺杂气体封闭在处理容器内的步骤和对处理容器内进行真空排气的步骤
方法装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201510217188.X有效
发明人：熊谷武司;尾谷宗之;大久保和哉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-04-30 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明提供成膜方法和成膜装置。该成膜方法包括以下工序：第1原料气体供给工序，向基板上供给含有第1金属元素的第1原料气体；第2原料气体供给工序，向所述基板上供给含有第2金属元素的第2原料气体；以及反应气体供给工序，将含有非金属元素的反应气体等离子体化并供给到所述基板上
方法装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201010621798.3有效
发明人：大泉行雄;本间学 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-12-24 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供成膜装置及成膜方法。将沿基板的周向呈环状形成在基板载置区域的周缘的环构件固定于贯穿旋转台地升降自如的升降销。
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201010122653.9有效
发明人：加藤寿;本间学;菊地宏之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-03 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该成膜方法为了使基板按顺序位于用于分别供给多种反应气体的多个处理区域、设在上述处理区域之间的被供给分离气体的分离区域，使用于分别供给多种反应气体的多个反应气体供给部件以及用于供给分离气体的分离气体供给部件
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201010122656.2有效
发明人：加藤寿;本间学 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-03 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该公开的成膜装置在真空容器的顶板上具有透射窗，利用透过该透射窗向基座上的晶圆照射光来测量所形成的膜的膜厚。具体地讲，膜厚测量系统包括：配置在透射窗的上表面上的3个光学单元；利用光学方式分别与各个光学单元相连接的光纤线；利用光学方式与这些光纤线相连接的测量单元；以及为了对测量单元进行控制而与测量单元电连接的控制单元
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN200910252478.2有效
发明人：小原一辉;本间学 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-12-11 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：基板加热部件，其是为了对被设在真空容器内的旋转台上的所载置的基板进行加热而设置的；反应气体供给部件，互相沿旋转台的周向隔开间隔地设置，分别用于向上述旋转台上的基板载置区域侧的面上供给反应气体
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201010250341.6有效
发明人：加藤寿;菊地宏之;牛窪繁博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-08-04 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法，使旋转工作台旋转，使BTBAS气体吸附在晶圆(W)上，接着向晶圆(W)表面供给O3气体，使其与吸附在晶圆(W)表面的BTBAS气体发生反应而形成氧化硅膜时，在形成氧化硅膜之后，由活化气体喷射器对晶圆(W)上的氧化硅膜供给Ar气体的等离子体，在每个成膜循环都进行改性处理。
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201010272014.0有效
发明人：加藤寿;织户康一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-08-31 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种使用第1和第2反应气体在被处理体上形成薄膜的成膜装置和成膜方法，该成膜装置包括真空容器、排气系统、用于载置被处理体的旋转台、用于使旋转台旋转的旋转机构以及将被处理体设定为使第1反应气体凝结的温度的温度调整机构
装置方法

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN200910179605.0有效
发明人：松永正信;野寺伸武;长谷部一秀 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-29 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法及成膜装置。在立式批量型CVD装置中，成膜方法构成为反复多次循环并将每次循环形成的薄膜进行层叠。
方法装置

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201010200797.1有效
发明人：大城健一;佐藤强;德本隆男;夏贞雄;岩崎聪一郎 -专利权人：株式会社东芝;中外炉工业株式会社
申请日： 2010-06-08 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： B05B13/04 文献下载
摘要：本发明所要解决的技术问题是，实现材料利用效率以及作业率的提高，且防止以涂覆喷嘴的污染为起因的膜厚均匀性的降低。本发明中，成膜装置(1)中，具备：具有载置涂覆对象物(W)的载置面(2a)的台架(2)、使台架(2)在沿载置面(2a)的旋转方向旋转的旋转机构(3)、将材料排出到台架(2)上的涂覆对象物(W)上并进行涂覆的涂覆喷嘴
装置以及方法

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