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[发明专利]干涉滤光片的分隔层的图案化方法-CN201010139114.6有效
发明人：阿尔博特·阿革帝亚;特里克·拉登;卡罗尔·索拉文 -专利权人： JDS尤尼弗思公司
申请日： 2010-03-18 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种干涉滤光片的分隔层的图案化方法，该方法用于制造具有介电分隔层以使得其不同区域具有不同厚度的色移光学装置。
干涉滤光片隔层图案方法

[发明专利]在基材上制造图案的方法及系统-CN200510098695.2有效
发明人：林进祥;林本坚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2005-09-09 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种在基材上制造图案的方法及系统，一种高解析度的微影系统与方法。在一实施例中，提供了一种在基材上制造图案的方法，包括将图案区分成至少一第一子图案以及一第二子图案，其中第一子图案包含朝第一方向的复数个线，且第二子图案包含朝第二方向的复数个线。利用第一驻波干涉图案形成朝第一方向的复数条线在基材上的第一光敏材料层上。消减所形成之线的一部分，以形成上述的第一子图案。在第一子图案形成后，提供第二光敏材料层在基材。利用第二驻波干涉图案形成朝第二方向的复数条线在第二光敏材料层上。消减形成在第二光敏层的这些线的一部分，以形成上述的第二子图案。
基材制造图案方法系统

[发明专利]全息图制作方法和制作的全息图-CN200910130713.9有效
发明人：山内豪;植田健治;渡部壮周 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2009-02-01 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种记录了10μm等级的细微的、不可目视的字符等的图案的全息图及其制作方法，在反射型的体积型全息图原版(1)的复制照明光(11)的入射侧配置体积型全息图记录材料(2)，通过使射入到记录材料(2)中的复制照明光(11)与来自原版(1)的衍射光(12)在记录材料(2)中干涉，由此复制反射型的体积型全息图原版时，在原版(1)和记录材料(2)之间，插入具有细微的正反射图案(3)的图案板(5)，通过使射入记录材料(2)中的复制照明光(11)和来自正反射图案(3)的正反射光(32)在记录材料(2)中干涉，由此在复制了反射型的体积型全息图原版(1)的全息图中，将正反射图案(3)作为全息图而多重地记录。
全息图制作方法制作

[发明专利]印刷品的清漆膜厚测定方法和清漆膜厚测定装置-CN201780058603.9有效
发明人：沼内裕光 -专利权人：小森公司
申请日： 2017-09-04 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B41F33/00 文献下载
摘要：印刷品的清漆膜厚测定方法求出利用油墨在基体上印刷有图案并在所述图案上涂布有清漆的薄片体(1)的清漆膜厚，其中，在薄片体(1)的基体上附加具有光滑表面的金属箔(1c)，利用分光干涉膜厚仪(81)来检测直接涂布在金属箔(1c)上的清漆的膜厚，并且基于由分光干涉膜厚仪(81)检测出的结果来判断清漆膜厚的良否。
印刷品漆膜测定方法装置

[发明专利]使用增强的干涉映象光刻技术的特征最优化-CN200410103875.0无效
发明人： T·莱迪 -专利权人： ASML蒙片工具有限公司
申请日： 2004-10-29 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：所公开的原理包括一种方法和程序产品，用于最优化图案的强度轮廓，该图案利用光学系统相对于给定掩模在基板表面中形成。其步骤包括用数学方法表示从给定掩模中可分辨的特征，生成表示光学系统特定特征的数学表达式，特征函数，通过滤波修正数学特征函数，根据给定掩模的数学表达式和滤波后的特征函数生成干涉图，并且基于干涉图确定对于给定掩模的辅助特征
使用增强干涉映象光刻技术特征优化

[发明专利]用于高分辨率无透镜光学传感的具有奇对称的相位光栅-CN201480010625.4有效
发明人： P·R·吉尔;D·G·斯托尔克 -专利权人：拉姆伯斯公司
申请日： 2014-03-03 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：图像传感设备包括奇对称光栅，该奇对称光栅将干涉图案投射到光电检测器阵列上。光栅特征对入射光的波长提供相当大的不敏感性，并且还对光栅和光电检测器阵列之间的制造距离也提供相当大的不敏感性。照片和其它图像信息可以从光电检测器阵列所捕获的干涉图案中提取。图像可以在没有透镜的情况下被捕获，并且照相机可以制得小于那些依赖于透镜和射线‑光学聚焦的照相机。
用于高分辨率透镜光学传感具有对称相位光栅

[发明专利]具有集成于芯片上的红外截止干涉滤光片与色彩滤光片的光传感器-CN201210022790.4有效
发明人：王至海;尼科尔·多勒内·谢内斯;斯坦利·巴尼特 -专利权人：美士美积体产品公司
申请日： 2012-01-20 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本申请案涉及具有集成于芯片上的IR截止干涉滤光片与色彩滤光片的光传感器。本发明描述用以供应光传感器的技术，所述光传感器包含与经图案化色通滤光片集成在一起的经图案化IR截止干涉滤光片。在所述衬底的所述表面上方形成经配置以阻挡红外光的IR截止干涉滤光片。所述光传感器还包含放置于所述IR截止干涉滤光片上面或下面的一个或一个以上色通滤光片。在一实施方案中，在所述表面上方形成缓冲层且所述缓冲层经配置以囊封多个色通滤光片以促进所述IR截止干涉滤光片的形成。
具有集成芯片红外截止干涉滤光片色彩滤光传感器

[发明专利]用于光电读取标记的成像读取器中瞄准光图案发生器-CN200580021498.9有效
发明人：弗拉迪米尔·古莱维奇;亚历山大·布雷特曼;大卫·特希·施 -专利权人：讯宝科技公司
申请日： 2005-06-28 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： G06K7/10 文献下载
摘要：生成不同瞄准光图案，从而使得成像读取器能够通过采用通过成型和加工技术制造的非干涉光学元件直接指向目标。
用于光电读取标记成像读取器瞄准图案发生器

[发明专利]一种用于沥青路面纹理三维测量的正交光纤干涉条纹投射器-CN202310527587.0有效
发明人：王含笑;张文武;曲建波;胡学亮;李昌辉;刘宪明;樊超;高国华;王乐宇;李隆吉 -专利权人：山东高速工程检测有限公司
申请日： 2023-05-11 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明提出一种用于沥青路面纹理三维测量的正交光纤干涉条纹投射器，该投射器由激光源、耦合透镜接口、保偏光开关、保偏光纤分路器和保偏光纤阵列组成。532nm的线偏振光，经耦合透镜进入保偏光开关，由保偏光开关切换控制与两只保偏光纤分路器的联通；保偏光纤分路器可将一束线偏振光等分为两束频率相同、振动方向相同且相位差恒定的相干光，分别传入保偏光纤阵列的干涉通道，并在阵列出射端面处形成杨氏双孔干涉；保偏光纤阵列的干涉通道采用双向正交设计，在保偏光开关的控制下分时投射两幅干涉光场中心一致、干涉频率相同、干涉对比度最强但方向正交的条纹图案，可作为主动式面结构光投影用于沥青路面纹理三维测量
一种用于沥青路面纹理三维测量正交光纤干涉条纹投射

[发明专利]用于对光学制品做永久性可见标记的方法以及有标记的光学制品-CN201780044543.5有效
发明人： S·莫里斯;G·凯勒;M·托马斯 -专利权人：依视路国际公司
申请日： 2017-07-18 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：披露了一种用于对涂覆有干涉涂层的光学制品(20)做标记的方法，所述干涉涂层包括至少两个层：内层(15)和外层(14)，并且具有反射系数Re；通过做标记波长的激光束，以烧蚀内层和远离基材的任何层的方式，在标记斑点本发明还涉及一种涂覆有干涉涂层的光学制品，所述干涉涂层包括至少两个层：内层和外层，所述制品包括由层的局部缺失形成的标记图案。
用于对光制品永久性可见标记方法以及光学

[发明专利]一种能同时诊断超短脉冲激光的啁啾特性与时空分布特性的方法-CN201710190810.1有效
发明人：左言磊;曾小明;周凯南;王逍;吴朝晖;王晓东;黄小军;谢娜;母杰;蒋东镔;周松;郭仪;孙立;黄征;粟敬钦 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G01J11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种能同时诊断超短脉冲激光的啁啾特性与时空分布特性的方法，属于超短激光技术领域，本发明直接利用待测信号光与参考光同轴进行谱域和空域干涉，根据干涉图案的形状特点以及干涉条纹的横向和纵向分布规律可以获取短脉冲的时空分布特性以及剩余啁啾特性；本方法是目前唯一可以同时提供时空分布信息以及时域特性信息的短脉冲诊断技术；与用于时域诊断的自相关仪或FROG方法相比，本方法采用线性干涉测量技术，且采用的是理想的参考光源，因此可以工作在极低能量条件下
一种同时诊断超短脉冲激光啁啾特性时空分布方法

[发明专利]增加高分子有机发光二极管元件色饱和度的装置及其方法-CN03136676.7无效
发明人：张书文 -专利权人：胜华科技股份有限公司
申请日： 2003-05-23 - 公布日： 2004-11-24 - 主分类号： H05B33/12 文献下载
摘要：一种增加高分子有机发光二极管元件色饱和度的装置及其方法，其主要是先制作一将阴极层图案化的阴极导电基板，再在阴极导电基板上设置发光材料，接着依序制作电洞传输层并在此层控制整体厚度，阳极层，在阳极层上设置一半透膜干涉层与保护层，通过上述的半透膜干涉层与阴极形成共振区间，使光波在此区间内反复共振干涉，特定光波在此共振区间被加强集中，而得到一高强度的单一波长射出面板，同时通过调整半透膜干涉层的间距，可得到所需要的特定光色。
增加高分子有机发光二极管元件饱和度装置及其方法

[发明专利]使用干涉成像光刻法的部件优化-CN200410082290.5有效
发明人： R·索查;X·施;D·范登布罗克;J·F·陈 -专利权人： ASML蒙片工具有限公司
申请日： 2004-12-17 - 公布日： 2005-10-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开构思包括一种方法和程序产品，用于优化在和给定掩模相关的衬底表面中形成的图案照度分布。步骤包括数学上表示给定掩模的可分解部件，产生来自前面步骤的干涉图像表示，改变干涉图像表示以最大化对应于可分解部件的强度以及决定辅助部件尺寸以便不显示强度旁波瓣。
使用干涉成像光刻部件优化

[发明专利]一种快速转镜动态面形的测试系统-CN201510375030.5有效
发明人：汪波;幺周石;陈祥;王世森;李帅;张文睿 -专利权人：西安空间无线电技术研究所
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2017-11-07 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：测试球面镜的反射光束按原光束的光轴原路返回一束准球面波；准球面波经快速转镜按准直光束的光轴反向传输，经分束镜投射到观察屏上；反射的一路直接照射到参考球面镜的镜面上；参考球面镜反射的准球面波通过分束镜也投射到观察屏上，两束准球面波相互重叠并产生干涉图案，观察屏后的CCD相机实时记录干涉图案，通过干涉图案得到快速转镜动态时的型面。
一种快速动态测试系统

[发明专利]在光学数据存储介质中记录数据的方法和光学数据存储介质-CN201210346611.2有效
发明人： A·纳塔拉延;E·P·博登;D·V·戴罗夫;E·M·金;陈国邦;V·K·帕鲁楚鲁;V·P·奥斯特罗弗霍夫;M·J·米斯纳;J·E·皮克特;P·J·麦克罗斯基 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2012-06-21 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： G11B7/0065 文献下载
摘要：所述方法进一步包括：(ii)用干涉图案照射所述光学数据存储介质的体积单元，所述干涉图案包括具有足以引起上能级三线态能量从所述非线性敏化剂转移到所述潜在酸发生剂的波长和强度的入射辐射，由此产生酸，其中所述潜在酸发生剂对所述入射辐射基本没有响应所述方法另外包括：(iii)使至少一种受保护的发色团与所产生的酸反应以形成至少一种发色团，由此引起在所述体积单元内的折射指数变化；和(iv)在被照射的体积单元内产生对应于所述干涉图案的折射指数变化，由此产生可光学读取的数据
光学数据存储介质记录方法