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- [发明专利]一种无肼刻蚀液-CN200310111758.4有效
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刘萍
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刘萍
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2003-10-09
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2005-04-13
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G03F7/32
- 本发明涉及一种无肼刻蚀液,为解决现有无肼刻蚀液的刻蚀速度较慢的问题,本发明无肼刻蚀液的其成分包括苛性碱、胺类和水,其中的苛性碱为氢氧化钾,胺类中包括一乙醇胺;另外,还可采用尿素作为其增速剂;所述胺类中还可加入己二胺,也就是说,所述胺类可以是一乙醇胺与己二胺的混合物。在本发明所述的无肼刻蚀液中,按重量计,氢氧化钾的含量为30-45份,水的含量为30-45份,一乙醇胺的含量为20-35份;在此基础上可再加入己二胺0-10份,尿素5-15份。
- 一种刻蚀
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