专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻机及应用于光刻机中的工件系统-CN201210189355.0有效
  • 陈文枢;王天明 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-06-08 - 2013-12-25 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻机,包括:掩模、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架以及工件系统,照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上,掩模台安装于测量框架上,掩模的反作用力通过掩模反力支架外引至基础框架上,测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上,工件系统包括用于工件工件减振器、工件反力外引结构以及工件台安装底座,工件通过工件减振器安装于工件台安装底座上,工件台安装底座可拆卸的安装于基础框架上,工件采用工件反力外引结构将工件的反作用力外引至基础框架。本发明可有效隔离基础框架和工件之间的相互影响,能简化结构并可以便于实现工件的安装和维护。
  • 光刻应用于中的工件系统
  • [实用新型]出料机-CN200820113276.0有效
  • 蒋明根 - 苏州中门子科技有限公司
  • 2008-07-24 - 2009-06-03 - B65G47/34
  • 本实用新型公开了一种出料机,包括出料传送系统、收料系统、收料,所述的出料传送系统包括用于将工件从出料机入口传送至收料系统的传送机构,所述的收料系统包括用于将传送机构送入的工件传送至收料的收料机构,所述的收料包括深度能够调节的载物工件从收料机构落入收料时,载物能够随着工件数量的多少而调整深度,避免了工件下落时的磕碰,能够起到保护工件表面的作用。
  • 出料机
  • [实用新型]激光直写曝光机-CN202222132352.5有效
  • 周来军 - 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
  • 2022-08-12 - 2022-12-16 - G03F7/20
  • 本申请提供一种激光直写曝光机,其包括用于对准工件的对准系统和曝光工件的曝光系统,还包括设置于底座上的第一工件、第二工件与第三工件,所述第一工件、所述第二工件与所述第三工件均可以沿各自的移动路径平移本申请的激光直写曝光机在原有的双台面激光直写曝光机的基础上增加了一组工件,形成了具有三组由总控控制的独立运行的工作,可以保证在任一时间内,均存在工作进入曝光工序,从而将曝光系统的等待时间几乎降低为零
  • 激光曝光
  • [实用新型]一种陶瓷基板的激光切割加工系统-CN201320535047.9有效
  • 李志刚 - 武汉帝尔激光科技有限公司
  • 2013-08-29 - 2014-07-02 - B23K26/38
  • 本实用新型涉及一种陶瓷基板的激光切割加工系统,包括X轴位移、Y轴位移、CCD相机、上下料系统工件吸盘、定位系统、Z轴位移、激光聚焦组件;激光聚焦组件设于所述工件吸盘上方,工件吸盘与所述Y轴位移连接,Z轴位移动设于所述工件吸盘的上方,与激光聚焦组件相连,CCD相机设于工件吸盘下方;上下料系统包括90度支板,吸盘A与吸盘B,上料盒及下料盒,完成加工工件的自动上下料动作,切口质量、良品率都大幅提升。
  • 一种陶瓷激光切割加工系统
  • [发明专利]工件测试方法、平面光栅测试方法及系统测试方法-CN202111597212.9在审
  • 付大为;焦健;解昊;范玉娇 - 北京华卓精科科技股份有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-04-01 - G01R31/00
  • 本发明涉及光栅测量领域,具体而言,涉及一种工件测试方法、平面光栅测试方法及系统测试方法。工件测试方法,利用框架标定工装上的第一平面光栅替代整机框架上的平面光栅模块,为读数头的信号提供参考基准,对工件进行测试,判断工件是否合格。平面光栅测试方法,利用测试合格的离线测试代替工件,对整机框架上的平面光栅模块进行测试,判断工件是否合格。系统测试方法包括上述工件测试方法和上述平面光栅测试方法。本发明提供的工件测试方法、平面光栅测试方法及系统测试方法,在测试时,不易损害平面光栅模块中的大尺寸异形平面光栅,从而,降低了整机的制造成本。
  • 工件测试方法平面光栅系统
  • [实用新型]一种抛光装置-CN202121596245.7有效
  • 饶杰 - 意力(广州)电子科技有限公司
  • 2021-07-14 - 2021-12-17 - B24B29/02
  • 该抛光装置包括架体、载、抛光系统以及转移系统。其中,载和抛光系统设置在架体上,载包括平行且间隔设置的第一载和第二载,第一载和第二载台中的一个用于容纳未抛光的工件,另一个用于容纳已抛光的工件,载能相对架体旋转,抛光系统用于对工件进行抛光,转移系统能够在载和抛光系统之间转移工件。当工件的一面完成抛光后,通过旋转载并互换第一载和第二载的位置,使第二载台上的工件的另一个待抛光面设置在能够被上料并进行抛光的第二载台上,避免额外增加一个中转载,同时减少抛光装置的占用空间,且提高抛光装置的自动化程度和生产效率
  • 一种抛光装置
  • [发明专利]工件传送加工系统-CN202111189783.9在审
  • 徐敬辉;盛春红 - 如皋臣杰精密机械有限公司
  • 2021-10-13 - 2021-11-12 - B23K26/362
  • 本发明涉及加工系统领域,尤其是工件传送加工系统。该加工系统包括工件水平传送一、工件推动机构、工件输入机构、旋转台、工件焊接机构、治具、脱料机构、顶出机构、工件输出机构、工件水平传送二、CCD相机、除尘风机、激光打标机,所述工件推动机构位于工件水平传送一下方本发明通过工件推动机构及工件输入机构将工件逐一放置到旋转台上。通过工件焊接机构来焊接工件。通过脱料机构及顶出机构将工件顶出治具。通过工件输出机构将工件移入工件水平传送二上。通过CCD相机来检测工件外形,通过除尘风机来吹除工件上的污物,通过激光打标机对工件进行打标。本申请提高了工件加工的效率。
  • 工件传送加工系统
  • [实用新型]一种复杂异型工件自动焊接轨迹生成系统-CN201621088064.2有效
  • 张铁;周仁义 - 华南理工大学
  • 2016-09-27 - 2017-04-05 - B23K37/02
  • 本实用新型公开了一种复杂异型工件自动焊接轨迹生成系统,包括工作、用于固定工件工件支撑回转台、实现工件三轴移动的工件装夹系统、机器视觉测量系统、触控显示屏,运动控制系统,所述的工件支撑回转台和工件装夹系统设置在工作台上;所述触控显示屏与运动控制系统电路连接,并通过安装手臂固定在工作一侧,所述机器视觉测量系统通过机器视觉测量系统支撑固定在工作台上用于根据获取的工件图像获得焊接轨迹;所述的运动控制系统包括运动控制器,本实用新型具有适应工件种类多、生成轨迹快、焊接质量高等优点。
  • 一种复杂异型工件自动焊接轨迹生成系统
  • [实用新型]陶瓷插芯高精度端面磨床-CN201420830703.2有效
  • 张舜德;刘红娟 - 宁波鱼化龙机电科技有限公司
  • 2014-12-24 - 2015-06-24 - B24B7/16
  • 本实用新型公开的陶瓷插芯高精度端面磨床,包括工件主轴系统和磨削主轴系统工件主轴系统包括工作工件主轴支架、主轴电机、驱动工作直线运动的平移机构,工件主轴支架内设置有工件主轴,工件主轴的一端设置有工件夹具;磨削主轴系统包括砂轮平移、磨削主轴支架、磨削电机、驱动砂轮平移摆动的摆动机构,磨削主轴支架内设置有与工件主轴相对应的磨削主轴,磨削主轴的一端设置有与工件夹具对应配合的磨削砂轮;摆动机构包括第一伺服电机,第一伺服电机的输出端设置有偏心轮,偏心轮通过连杆组件与砂轮平移传动连接。本实用新型结构简单合理、控制方便、磨削精度较高、能有效满足工件端面与内孔的垂直度要求。
  • 陶瓷高精度端面磨床
  • [发明专利]一种全局调平边沿扫描的装置和方法-CN201210285811.1有效
  • 吴飞;王献英;束奇伟;孙刚;袁志扬 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-08-13 - 2014-02-19 - G03F7/20
  • 本发明提供一种全局调平边沿扫描的装置,包括:一工件,用于承载一硅片,并为该硅片提供多个自由度运动;工件驱动装置,用于驱动所述工件;调焦调平装置,用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系;测量系统,用于测量所述工件的位置;第一传输系统,用于输入信息,所述输入信息为所述测量系统测得的信息;计算器,用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置;第二传输系统,用于将初始位置信号传输给所述工件驱动装置;所述工件驱动装置驱动所述工件从初始位置开始进行全局调平边沿扫描,最终回到初始位置。
  • 一种全局边沿扫描装置方法
  • [发明专利]基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法-CN201310103916.5有效
  • 霍志军;周金明 - 上海微电子装备有限公司
  • 2013-03-27 - 2014-10-01 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法,其结构包括照明系统、用于承载硅片的工件、用于承载圆形掩模的掩模以及同步控制系统,所述照明系统提供光源,所述同步控制系统控制所述工件做直线运动,控制所述掩模做圆周运动,所述掩模圆周运动的圆心为所述圆形掩模的圆心。本发明中,基于圆形掩模而设计的同步控制系统控制工件、掩模以及照明系统的运动,按照特定的路径完成扫描,完成一个曝光场的扫描后,圆形掩模继续做匀速圆周运动,工件继续做匀速直线运动,进行下一个曝光场的扫描,大大减少发生路径折返的次数,降低了系统资源的开销,同时减少了掩模工件的变速运动过程,提高了成像质量及精度。
  • 基于圆形步进扫描光刻及其曝光方法

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