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- [发明专利]面阵投影自同步光路旋转三维成像的方法-CN200610026437.8无效
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陈亚珠;程胜
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上海交通大学
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2006-05-11
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2006-10-11
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G02B27/22
- 一种光学技术领域的面阵投影自同步光路旋转三维成像的方法，采用的是面阵投影自同步光路旋转的方式，面阵投影装置的投影光条纹方向、二维成像装置的成像扫描方向和双面镜的旋转中心线三者方向一致，通过双面镜和摆镜旋转反射来获取若干个由面阵投影装置的投影光路和二维成像装置的接收光路交汇而成的局部有效视场，在局部有效视场内二维成像装置摄取图像时满足避免成像运动型模糊的条件，利用光学成像的手段，获得若干个局部有效视场的三维成像数据，通过累积获得大视场三维成像的数据。本发明通过旋转移动局部有效视场的方法，实现对被测物体的大视场三维成像，可用于设计和制造高性能、低成本、占用空间小的大视场三维面形传感器。
- 投影同步旋转三维成像方法
- [发明专利]一种大视场曝光系统-CN201610876749.1有效
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孙晶露;郭银章
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上海微电子装备（集团）股份有限公司
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2016-09-30
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2019-08-23
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G03F7/20
- 本发明公开了一种大视场曝光系统，包括沿光路依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块和工件台，所述投影物镜模块由若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接而成，每个所述子投影物镜单元包括平板、楔板和透镜，所述平板通过若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接形成投影物镜模块，从而在非扫描方向上拼接成连续大视场，每个子投影物镜单元包括由负折射率材料或在曝光波段折射率为负的材料制成的平板、楔板和透镜排列而成，通过平板、楔板和透镜的运动可以实现对子投影物镜单元焦面、位置、倍率的调整来补偿掩膜和基板加工误差和形变对成像的影响，保证了大视场的成像质量。
- 一种视场曝光系统
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