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[发明专利]多弧离子镀膜涂层工艺-CN202210539640.4有效
发明人：刘浩;陈效全 -专利权人：无锡乾泰新材料科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀膜涂层工艺。其工艺步骤为：步骤1、基材预处理；步骤2、磁控多弧离子镀TiN过渡涂层；步骤3、磁控多弧离子镀TiTaN涂层；步骤4、磁控多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层。采用辉光放电和离子轰击对基材进行刻蚀，提高了涂层与基材的结合强度，同时，使用磁控弧技术对基材进行多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层，二次镀膜采用TaTi靶作为靶材，三次镀膜中使用Co靶材、BiScC与现有技术相比，本发明通过多弧离子镀膜涂层工艺制备的TiTaN‑BiScCoCN涂层具有耐磨性好、耐热盐腐蚀性好以及与基材结合强度好的优点。
离子镀膜涂层工艺

[实用新型]一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜工装-CN202221683383.3有效
发明人：增田清志;增田博志 -专利权人：浙江京浜光电科技有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜工装，包括递送柄和镀膜工装，还包括夹料机构，所述夹料机构由对板、定位孔A、定位孔B、导向板、导向槽、止板、止牙和弹簧构成，所述递送柄的一侧焊接有用于托接板状材料向多弧离子镀膜内进行上料的镀膜工装，且镀膜工装的工装槽内对向嵌入有用于对向夹持板状材料的对板，在多弧离子镀膜用镀膜工装处设置有夹料机构，借助夹料机构的设置，使得多弧离子镀膜用简单的镀膜工装处存在可以简单稳定夹持板状材料的结构，方便板状材料稳定的在镀膜工装处被方便的送入多弧离子镀膜设备内进行镀膜
一种便于离子镀膜工装

[实用新型]一种PVD工模刃多弧离子镀膜机-CN202120260971.5有效
发明人：谢学东;谢辉东 -专利权人：丹阳市宝来利真空机电有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及多弧离子镀膜机技术领域，且公开了一种PVD工模刃多弧离子镀膜机，包括镀膜箱体，所述镀膜箱体的顶部固定连接有冷却箱，所述冷却箱顶部的左侧固定连接有进水箱，所述进水箱的顶部固定连接有进水管，所述进水箱的左侧壁固定连接有冷凝器该PVD工模刃多弧离子镀膜机，实现了多弧离子镀膜机便于冷却的目的，离子镀膜机对材料进行镀膜之后，可以将材料快速的移动到下一步工序进行加工，提高了材料加工的速度，提高了多弧离子镀膜机的使用效率和使用效果。
一种 pvd 工模刃多弧离子镀膜

[发明专利]多弧离子镀膜装置-CN202210517313.9在审
发明人：王君;闫超颖;依君;梁惠朋 -专利权人：沈阳爱科斯科技有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多弧离子镀膜装置。该多弧离子镀膜装置包括镀膜模组，镀膜模组包括真空室、镀膜弧源和刻蚀弧源，镀膜弧源和刻蚀弧源均与真空室相连接，真空室的内部用于通入反应气体。该多弧离子镀膜装置采用刻蚀弧源和阳极组件组成的刻蚀组件对工件表面进行刻蚀处理，再通过镀膜弧源对工件进行沉积镀膜，能够提高工件外表面与膜层之间结合力，使得工件表面获得致密、高硬度、高耐磨的高性能功能膜层，
离子镀膜装置

[实用新型]多弧离子镀膜装置-CN202221141277.2有效
发明人：王君;闫超颖;依君;梁惠朋 -专利权人：沈阳爱科斯科技有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多弧离子镀膜装置。该多弧离子镀膜装置包括镀膜模组，镀膜模组包括真空室、镀膜弧源和刻蚀弧源，镀膜弧源和刻蚀弧源均与真空室相连接，真空室的内部用于通入反应气体。该多弧离子镀膜装置采用刻蚀弧源和阳极组件组成的刻蚀组件对工件表面进行刻蚀处理，再通过镀膜弧源对工件进行沉积镀膜，能够提高工件外表面与膜层之间结合力，使得工件表面获得致密、高硬度、高耐磨的高性能功能膜层，
离子镀膜装置

[实用新型]钛铝涂层用多弧离子镀膜机-CN02277924.8无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-12-20 - 公布日： 2003-11-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种钛铝镀层用多弧离子镀膜机，它主要由多弧离子镀膜炉炉壁上均匀安装多个钛铝镀层蒸发源与多个纯钛离子轰击、予镀蒸发源构成，本实用新型的优点是钛铝涂层与工件基体结合牢固，保证了钛铝镀膜涂层性能良好。且钛铝涂层多弧离子镀膜机的钛铝镀层蒸发源与纯钛离子轰击予镀蒸发源分布合理，加工工效高。
涂层用多弧离子镀膜

[发明专利]阴极靶装置及真空多弧离子镀膜机-CN202011428533.1在审
发明人：戴丽娜 -专利权人：苏州科亿嘉新技术开发有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机，涉及离子镀膜技术领域，为解决现有离子镀膜机将物件放置在工件上，与阴极弧靶是一个固定机构，在对于物件的不同点进行镀膜时较为繁琐的问题。所述离子镀膜机主体钢架的内部设置有固定板，所述固定板的下端面设置有螺纹杆，且螺纹杆设置有六个，六个所述螺纹杆均与镀膜机主体钢架的下端面螺纹连接，六个所述螺纹杆的下端面均设置有柱脚，所述离子镀膜机主体钢架的上方设置有镀膜机主体
阴极装置真空离子镀膜

[发明专利]一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法-CN201911126498.5在审
发明人：刘辉婵;刘召飞 -专利权人：河北召飞科技服务有限公司
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，涉及多弧离子镀技术领域，包括超声波清洗，其特征在于：所述把被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，所述工件放入烘干机中烘干去除水分，所述工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗该多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，能够通过将被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，再将工件工件放入烘干机中烘干去除水分，最后将工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗，镀层时需要充入的氮气为800SCCM，充入的氩气为300SCCM，且开20秒关60秒，所述偏压为150V，偏压占空比40％，偏流40A‑60A，使用四组150A弧组。
一种离子镀膜过程减少大液滴方法

[发明专利]一种多弧离子镀阴极装置-CN201910349838.4在审
发明人：崔岸;黄显晴;刘天赐;杨伟丽;徐晓倩;孙文龙;郝裕兴 -专利权人：吉林大学
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀阴极装置，包括用于安装多弧离子镀阴极装置的真空腔体装置和多弧阴极电源，多弧阴极体通过多弧阴极底座安装于真空腔体装置内；多弧阴极体与辅助阳极板通过绝缘支撑柱固定连接；凹型矩形靶固定在多弧阴极体上；电磁铁设置有多个；多弧阴极底座的两端安装绝缘密封电极，多弧阴极底座一端安装引弧装置；绝缘密封电极分别与多个电磁铁连接；控制系统调节多个电磁铁线圈的电流幅值。本发明提供了一种多弧离子镀阴极装置，通过计算机对磁场进行智能控制，使镀膜更加均匀致密，提高镀膜层均匀性和镀膜效率。
多弧离子镀阴极装置阴极底座阴极体电磁铁真空腔体装置绝缘密封电极电磁铁线圈绝缘支撑柱镀膜效率均匀致密控制系统阴极电源引弧装置智能控制镀膜层矩形靶均匀性阳极板凹型镀膜磁场计算机

[发明专利]一种二道环的表面镀CrN的加工工艺-CN202010266973.5在审
发明人：姚剑鸣 -专利权人：清远市万里丰活塞环有限公司
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于活塞环加工领域，公开了一种二道环的表面镀CrN的加工工艺，包括如下步骤：步骤1：将加工好的活塞环清洗后采用挂具挂好；步骤2：将步骤1处理得到活塞环装入大弧源多弧离子镀膜机，所述大弧源多弧离子镀膜机内依次布置有12个弧源，依次标号为1‑12号弧源；步骤3：将活塞环的表面采用大弧源多弧离子镀膜机经过镀CrN处理即可。
一种二道环表面 crn 加工工艺

[发明专利]烧结钕铁硼磁体表面多弧离子镀制备多层复合防护涂层及工艺-CN201410242768.X有效
发明人：白雪铠;孙世明;刘泽 -专利权人：北京汇磁粉体材料有限公司
申请日： 2014-06-04 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明属于表面防护涂层技术领域，具体是一种烧结钕铁硼磁体表面多弧离子镀制备多层复合防护涂层及工艺。采用多弧离子镀沉积技术高效地在烧结钕铁硼磁体表面制备过渡层、耐蚀层、表面阻挡与耐磨层复合防护涂层，实现显著改善烧结钕铁硼磁体的耐蚀性，延长使用寿命。其工艺步骤为：(1)磁体表面除油、除锈，清洁表面；(2)真空镀膜室内辉光放电反溅清洁表面；(3)多弧离子镀Ti或者Cr过渡层；(4)多弧离子镀Al或Al合金；(5)多弧离子镀AlN层。采用电弧离子镀膜技术，结合多功能层复合结构涂层体系的设计，该工艺具有沉积效率高，涂层结合力和致密度高，工艺简单，环保无污染，低成本，易于实现批量规模化生产。
烧结钕铁硼磁体表面离子镀制备多层复合防护涂层工艺

[发明专利]一种利用多弧离子镀膜处理钛合金表面的方法-CN202210510400.1在审
发明人：王建刚 -专利权人：中科微晶医疗科技（苏州）有限公司
申请日： 2022-05-11 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于多弧离子镀膜技术领域，公开了一种利用多弧离子镀膜处理钛合金表面的方法，包括钛合金基板，所述铝合金基板上覆盖有纳米氧化铝致密镀层，所述氧化铝致密镀层的外侧覆盖有YSZ‑Ag‑Mo耐磨层；所述多弧离子镀膜处理钛合金表面的方法包括一下步骤：步骤一、对钛合金基板的表面打磨抛光，然后浸入清洗液进行清洗，再通过超声波清洗，最后用酒精脱水干燥；步骤二、将钛合金基板置入多弧离子镀膜设备中，以纯铝板作为阴极。本发明，相对于传统工艺更为环保安全，减少工艺步骤，提高加工效率，同时使得氧化铝致密镀层的致密性与镀膜均匀性更好，具有较为稳定良好的物理性能与化学性能。
一种利用离子镀膜处理钛合金表面方法

[发明专利]一种冲孔针头表面多弧离子镀掺杂钛的类金刚石膜的方法-CN201810192711.1有效
发明人：于翔;王彩萍;张月娟 -专利权人：中国地质大学（北京）
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种冲孔针头表面多弧离子镀掺杂钛的类金刚石膜的方法，属于镀膜工艺技术领域，该方法采用多弧真空离子镀膜机在冲孔针头上镀含合金元素的类金刚石膜，首先对冲孔针头进行打磨，之后超声清洗，然后再放入多弧真空离子镀膜机中进行镀膜，申请人通过对镀膜工艺大量摸索，优化了镀膜的工艺条件，降低了DLC薄膜的内应力并提高其热稳定性，提高材质的高温强度，钢的软化程度减少，在高温镀膜后能在喷丝头冲孔中保持其本征硬度。
一种冲孔针头表面离子镀掺杂金刚石方法

[发明专利]多弧离子镀用输送系统及多弧离子镀膜工艺-CN202211568853.6有效
发明人：卢国英;石昌仑;柳军宁 -专利权人：常州夸克涂层科技有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于输送领域，具体涉及一种多弧离子镀用输送系统及多弧离子镀膜工艺，其中，一种多弧离子镀用输送系统包括：炉体真空腔、支架、机械臂、转动机构以及输送机构；所述输送机构设置在所述支架侧，且适于将待镀膜工件输送至靠近支架；所述机械臂适于将所述输送机构输送的待镀膜工件抓取后放至所述转动机构上；所述转动机构适于在待镀膜工件装载完毕之后，从所述支架滑动进入所述炉体真空腔中；所述炉体真空腔适于对待镀膜工件进行离子镀。通过将转动机构设置成滑动在支架以及炉体真空腔内，从而便于后续的机械臂抓取，同时，设置输送机构对待镀膜工件进行输送，提高了工件的镀膜效率，减少了人工成本。
离子镀输送系统离子镀膜工艺

[实用新型]一种多弧离子镀阴极装置-CN201920596788.5有效
发明人：崔岸;黄显晴;刘天赐;杨伟丽;徐晓倩;孙文龙;郝裕兴 -专利权人：吉林大学
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多弧离子镀阴极装置，包括用于安装多弧离子镀阴极装置的真空腔体装置和多弧阴极电源，多弧阴极体通过多弧阴极底座安装于真空腔体装置内；多弧阴极体与辅助阳极板通过绝缘支撑柱固定连接；凹型矩形靶固定在多弧阴极体上；电磁铁设置有多个，且均匀排布于多弧阴极体底座上；多弧阴极底座的两端安装绝缘密封电极，多弧阴极底座一端安装引弧装置；绝缘密封电极分别与多个电磁铁连接；控制系统调节多个电磁铁线圈的电流幅值。本实用新型提供了一种多弧离子镀阴极装置，通过计算机对磁场进行智能控制，使镀膜更加均匀致密，提高镀膜层均匀性和镀膜效率。
一种离子镀阴极装置

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