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- [发明专利]多个光阻图案的界定方法-CN202210166358.6在审
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叶永全;陈任和
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南亚科技股份有限公司
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2022-02-23
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2022-10-28
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G03F7/20
- 本公开提供一种多个光阻图案的界定方法。该方法包含：提供一基底，该基底具有一周围区以及一阵列区，该阵列区邻近该周围区；涂布一双型光阻在该基底上以形成一光阻层；依序经由一第一光罩以及一第二光罩而将该光阻层曝光于紫外线辐射，以界定多个沟槽图案在该阵列区以及该周围区中；使用一正型显影剂而显影该光阻层，以形成该等沟槽图案在该阵列区以及该周围区中；经由一第三、一第四或一第五光罩而将该光阻层曝光在紫外线辐射，以界定一穿孔图案在该阵列区、该周围区或其两者的任何其中一个中的该沟槽图案；以及使用一负型显影剂而显影该光阻层，以形成一穿孔图案在该阵列区、该周围区或其两者的任何其中一个中的该沟槽图案。
- 多个光阻图案界定方法
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