专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氧型TADF类有机光电材料的制备方法-CN202210046890.4在审
  • 翟圣先;董端;卫爱民;梁艳美;冯馨玉;陆永欢;李权威;文惠婷;冀豪然 - 安阳工学院
  • 2022-01-14 - 2022-04-15 - C07F9/6568
  • 本发明公开了一种对称氧型TADF类有机光电材料的制备方法,属于有机功能材料领域。以2,2'‑二硝基‑联苯经过氯化锡还原、胺基酰化、富电性芳环溴代反应、脱酰基保护基成游离胺基、胺基经过重氮盐历程转化成5,5'‑二溴‑2,2'‑二碘‑联苯,紧接着5,5'‑二溴‑2,2'‑二碘‑联苯经过锂‑碘交换与二氯苯基亲核取代反应生成苯基杂苯并吲哚和苯基杂苯并吲哚氧化成苯基氧杂苯并吲哚,再经过铜催化溴代芳烃与杂芳烃偶联反应,合成具有荧光活性氧类型的有机小分子发光材料。该发明合成2,8‑二吩嗪基‑5‑苯基苯并氧杂吲哚具有成为有机小分子类电致发光材料和用作光敏剂用于有机光反应的潜力,贴合有机小分子材料多功能应用化的发展趋势。
  • 一种氧膦型tadf有机光电材料制备方法
  • [发明专利]一种聚天冬氨酸和己二胺四甲基复配阻垢剂-CN201410679177.9在审
  • 何猛 - 何猛
  • 2014-11-25 - 2016-06-22 - C02F5/14
  • 本发明公开了一种聚天冬氨酸和己二胺四甲基复配阻垢剂,该产品属于化工领域,使用的原料按重量配比包括:马来酸酐26%-28%、氨水55%-57%、氧化铁和氧化镍的混合物2%、己二胺四甲基9%、余量为氢氧化钠水溶液,通过在一定温度下掺混的方法来生产聚天冬氨酸和己二胺四甲基复配阻垢剂,聚天冬氨酸和己二胺四甲基复配有增效作用,尤其是使聚天冬氨酸的混合物对硫酸钙垢的阻垢作用大幅增强,产品广泛应用于冷却水系统
  • 一种天冬氨酸己二胺甲基膦酸复配阻垢剂

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