专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种W18-CN202110338016.3在审
  • 徐振和;王立冬;王欣欣;王帅;李欣倩;袁熠阳 - 沈阳化工大学
  • 2021-03-30 - 2021-07-20 - B01J27/24
  • base:Sub>18O49/g‑C3N4/RGO半导体光催化制备方法,涉及一种光催化制备方法,本发明采用增强可见催化活性的金属离子掺杂半导体制备光催化,以g‑C3N4为参照,将W18O49和氧化态石墨烯按照一定的摩尔比在水热条件下反应,获得目标光催化。本发明可见催化结构清晰,组成明确,通过W18O49的掺杂可以显著增强g‑C3N4的可见谱响应范围,与石墨烯复合后可以使光生载流子的扩散范围增大,抑制光生电子‑空穴对的重组从而增强可见催化降解活性,是一种有前途的可见催化材料。
  • 一种basesub18

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