专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种旋转转运机构-CN201520153613.9有效
  • 王志强;曾墩风;罗文富;曾青云 - 厦门映日新材料科技有限公司
  • 2015-03-18 - 2015-08-19 - B65G63/02
  • 本实用新型公开一种旋转转运机构,该转运机构包括承载的转运装置,及转运小车;所述转运装置在真空罐内,该转运装置定位在喷涂工作台上并位于喷枪下方,进而形成的喷涂定位结构;而转运小车则移动至真空罐开口处,形成承载转运装置的移动式推车结构,进而所述转运装置与转运小车配合形成转运机构。本实用新型所述转运装置将移动至转运小车上,从而实现对旋转的转运,转运小车可将旋转移动至其他地方。进而令工作人员无需进去真空罐体内作业就能实现转运效果,令作业便捷,工作效率提高。
  • 一种旋转转运机构
  • [实用新型]一种旋转吊装装置-CN202023319862.0有效
  • 不公告发明人 - 南京欧美达应用材料科技有限公司
  • 2020-12-31 - 2021-10-22 - B66C1/62
  • 本实用新型公开了一种旋转吊装装置,包括,腔盖体;吊板;固定环板;限位环;旋转;固定板;所述旋转内侧固设有内衬管,所述内衬管延伸至所述旋转端部外侧;所述内衬管外侧配置有固定环板;所述固定板内置于所述内衬管内部且被配置为与内衬管相互固定本实用新型可以对在对旋转加工过程中,一些尺寸规格较大的旋转、工人进行搬运较为困难的旋转进行有限稳定的吊起和搬运。
  • 一种旋转吊装装置
  • [实用新型]一种具有独立冷却水系统的磁场移动-CN201420237880.X有效
  • 赵宏清;刘晓文 - 山东禹城汉能光伏有限公司
  • 2014-05-12 - 2014-09-10 - C23C14/35
  • 本实用新型涉及一种具有独立冷却水系统的磁场移动座。本一种具有独立冷却水系统的磁场移动座,包括基板、磁钢组件、和对磁钢组件起到调节移动作用的微调装置,该微调装置通过连接座与磁钢组件相连,磁钢组件外围设有U型冷却基座,U型冷却基座内嵌入U型冷却水管,U型冷却基座底部安装;微调装置包括定位左档、滑动中档、定位右档,三档中间间隔以座磁场暗区为基础,滑动中档通过螺母连接微调丝杆,微调丝杆左、右端部均通过支撑轴承固定于定位左、右档上,微调丝杆端部边缘设有旋转手柄,滑动中档通过连接座与磁钢组件相连。本实用新型使消耗从V型结构变成U型结构,方便快捷的提高利用率。
  • 一种具有独立冷却水系统磁场移动靶
  • [发明专利]溅射装置及使用其形成半导体结构的方法-CN202310720707.9有效
  • 王晋;黄峰;高晋文;郭佳惠 - 润芯感知科技(南昌)有限公司
  • 2023-06-19 - 2023-10-27 - C23C14/34
  • 一种溅射装置及使用其形成半导体结构的方法,所述溅射装置包括至少一个溅射腔室,且每个溅射腔室包括承载台和结构。承载台被配置为承载待镀膜的基板,且绕沿第一方向的旋转旋转,第一方向垂直于承载台配置为承载基板的主表面,其中承载台包括被配置为安装基板的基板安装区;结构在第一方向上与承载台相对设置,且包括溅射区,溅射区是被配置为在溅射工艺中向位于承载台上的基板提供粒子的区域,其中靶溅射区与基板安装区在第一方向上交叠,且在平行于承载台的主表面的第二方向上延伸超出基板安装区的边缘。本公开实施例的溅射装置提高溅射工艺在深孔侧壁镀膜的能力。
  • 溅射装置使用形成半导体结构方法
  • [实用新型]旋转阴极机构-CN201220096370.6有效
  • 朱殿荣;曹俊 - 无锡康力电子有限公司
  • 2012-03-14 - 2013-05-01 - C23C14/34
  • 一种旋转阴极机构,它包括旋转机构(4)、支架(3)、冷却水管(8)和依次安装在冷却水管(8)外侧的极靴(7)、多个条形磁铁(6)、(5),上述套管的一侧装有一端盖(9),另一端安装旋转机构(4)和支架(3),所述的条形磁铁(6)和(5)之间套装不锈钢管。本实用新型为一种新型机构,通过在溅射过程中旋转,使得在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀,将一次利用率提高到≥80%以上;同时可以有效减少打弧和面掉渣,工艺稳定性好。
  • 旋转阴极机构
  • [发明专利]一种原子尺度超多层结构薄膜及其制备方法与应用-CN202310338458.7在审
  • 刘江文;刘天奇;覃甲尧;王辉;欧阳柳章;曾美琴;朱敏 - 华南理工大学
  • 2023-03-31 - 2023-06-27 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种原子尺度超多层结构薄膜及其制备方法与应用;本发明将两种分别安装在超高真空磁控溅射系统的不同溅射靶位上,将清洗后的基底安装在溅射腔室的旋转底座上;所述为Mg和Cr;对超高真空磁控溅射系统的溅射腔抽真空后,通入工作气体;工作气压稳定后,对每个进行预溅射,清除表面污染层;进行基底旋转溅射:控制不同的溅射功率和基底转速,使得基底在旋转过程中依次通过不同的上方,旋转溅射后得到原子尺度超多层结构薄膜本发明的制备方法工艺简单,原料价格低廉,通过调控溅射功率与基底转速,实现原子尺度上的结构控制,得到20nm厚度以下级别的超多层膜结构,具有优异的储氢性能。
  • 一种原子尺度多层结构薄膜及其制备方法应用
  • [发明专利]一种提高旋转利用率的溅射方法及溅射设备-CN202210506190.9在审
  • 张永胜;解传佳;武瑞军;莫超超;杨肸曦;彭孝龙;周振国 - 苏州迈为科技股份有限公司
  • 2022-05-10 - 2022-07-22 - C23C14/54
  • 本发明属于溅射镀膜技术领域,公开了一种提高旋转利用率的溅射方法及溅射设备。该提高旋转利用率的溅射方法中,在线获取位于真空室内的所述的形貌信息;根据所述的形貌信息自动生成所述的外径形貌拟合图;根据所述外径形貌拟合图,自动控制所述轴向各处的磁场强度,以使所述均匀消耗在线获取刻蚀情况并自动调整磁场强度,不需要对真空室破除真空后取出调整更方便,且有利于提高调整频率,从而能够及时调整轴向各处的磁场强度,有利于增大利用率的调整幅度。本发明提供的溅射设备能够在线获取表面刻蚀情况并调整对应位置磁场强度,不需人工操作,效率高,调整及时,能明显改善的利用率。
  • 一种提高旋转利用率溅射方法设备

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