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[发明专利]气体反应腔室-CN202310222577.6在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：芯视界（北京）科技有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01N21/03 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应腔室，采用本发明的气体反应腔室，能够改变反应部在流体中的相对位置，以此提高气体比色反应的反应程度，进而提高检测信号强度。所述气体反应腔室具有进气口、出气口以及反应室，所述反应室用于收纳测试膜，所述测试膜包括：基底面；以及多个凸起结构，所述多个凸起结构自所述基底面凸起，在所述多个凸起结构的顶面上设有用于与气体进行反应的反应部，其中，所述气体由所述进气口进入所述反应室，沿所述基底面的设有所述多个凸起结构的一侧流向所述出气口。
气体反应

[实用新型]一种电解设备-CN201620706177.8有效
发明人：高惠欣;李志强 -专利权人：南安市泉建机械科技有限公司
申请日： 2016-07-06 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电解设备包括阳极气体导通管、阴阳极通电器、阴极气体导通管、阴极气体储藏室、阴极气体取出管、机械底座、阴极反应发生室、填料口、阳极反应发生室、阳极气体取出管、阳极气体储藏室；所述机械底座上设有阴极气体储藏室，所述机械底座上设有阴极反应发生室，所述机械底座上设有阴极反应发生室和阳极反应发生室，所述阳极反应发生室与阴极反应发生室相连，所述填料口设在阳极反应发生室与阴极反应发生室之间，所述阴极气体导通管将阴极反应发生室与阴极气体储藏室相连，所述阴阳极气体储藏室上设有阴极气体取出管，所述阳极气体导通管将阳极反应发生室与阳极气体储藏室相连。
一种电解设备

[发明专利]用于化学蒸气淀积反应器的气体喷射装置-CN97119279.0无效
发明人：约瑟夫·H·麦克利什;罗伯特·D·梅尔霍;马海什·K·桑加尼里亚;德尔索拉尔·苏尔里兹 -专利权人：康塞普特系统设计公司
申请日： 1997-08-07 - 公布日： 1998-03-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：化学蒸气淀积反应器,包括独立的反应室和压力室。反应室包容在压力室中,将作业气体与压力室隔绝。还包括气体喷射装置,它对作业气体进行预热,并使扩散后的作业气体穿过反应室的底面,以大致垂直的方向喷射到反应室中。气体喷射装置还使氢气或其它适当的气体穿过反应室的底面,以垂直的方向喷射到反应室中。氢气或其它适当气体的气流使作业气体的气流转向为平行于晶片的顶面。这样,减小了作业气体引入长度和在反应室表面上的不利淀积。
用于化学蒸气反应器气体喷射装置

[发明专利]燃料浓度测量装置及方法-CN200810185614.6有效
发明人：康顾严;赖秋助 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2008-12-17 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G01N31/12 文献下载
摘要：一种燃料浓度测量装置，其包括一触媒层、一扩散层、一燃料室、一反应气体室以及一传感器。扩散层与触媒层连接，燃料室适于容纳待测燃料，且扩散层位于燃料室与触媒层之间。反应气体室适于容纳反应气体，触媒层位于反应气体室与扩散层之间，而燃料室内的待测燃料经由扩散层扩散至触媒层中，且待测燃料与反应气体在触媒层中进行燃烧反应，以消耗反应气体室内的反应气体并产生一产物气体。传感器配置于反应气体室上，以测量反应气体室内的反应气体或产物气体的浓度。此外，本发明亦提供一种燃料浓度测量方法。
燃料浓度测量装置方法

[发明专利]一种气体浓度检测装置及其检测方法-CN201910708415.7在审
发明人：朱永亮 -专利权人：安徽赛安安全设备有限责任公司
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G01N7/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体浓度检测装置及其检测方法，涉及气体检测技术领域。本发明包括反应室、测量室、氧气室、真空泵、输送管、温度探测器和气压探测器，反应室分别与测量室、氧气室、真空泵以及输送管连接，温度探测器和气压探测器均设置在反应室内，待检测气体通过输送管进入反应室内。本发明通过在反应室中对待测气体进行反应，并根据反应后的气体体积的变化计算出待测气体中被检测气体的浓度，通过氧气室增加反应室氧气含量，通过测量室进行气体体积的计算。
反应室测量室输送管氧气室气压探测器温度探测器真空泵检测气体浓度检测装置室内气体检测技术待测气体气体通过氧气

[发明专利]高通量气相沉积设备及气相沉积方法-CN201910759403.7有效
发明人：李卫民;俞文杰;朱雷;王轶滢 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种高通量气相沉积设备及气相沉积方法，高通量气相沉积设备包括：反应腔室；旋转工作台，位于反应腔室内；气体导入装置，位于所述反应腔室内，且位于旋转工作台的上方；气体导入装置将反应腔室分割为上部腔室及下部腔室；气体导入装置上设有若干个通孔；气体隔离结构，位于上部腔室内，且将上部腔室分割为相互隔离的隔离气体腔室及反应气体腔室；隔离气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与隔离气体腔室相连通；反应气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与反应气体腔室相连通。本发明的高通量气相沉积设备只需要使用一套隔离气体供给系统及一套反应气体隔离系统共两套气体供给系统，结构简单，容易实现，且隔离度好。
通量沉积设备方法

[实用新型]反应室中设有气体均匀装置的甲醛反应器-CN200820301677.9有效
发明人：谭文斌 -专利权人：谭文斌
申请日： 2008-08-01 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： C07C47/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反应室中设有气体均匀装置的甲醛反应器，它与现有的反应器相同也包括罐体，罐体内部设有反应室和热交换室，反应室与热交换室之间由管板隔离，反应室的侧壁上开设有反应气体入口，所不同的是，所述反应室内设有气体均匀装置，所述气体均匀装置包括一个沿反应室的侧壁、底部低于反应气体入口，且与反应气体入口导通的上端敞口的环状混气槽。由于在反应气体入口处设有气体均匀装置，反应气体从入口进入反应腔的初始，会沿着回转面回转并上升，然后再从回转面上端的开口下降进入反应腔中开始反应。在反应气体回转、上升和下降的过程中，反应气体被逐步混合均匀，从而使反应均匀稳定，反应的转化率高，且反应速度也容易控制。
反应设有气体均匀装置甲醛反应器

[实用新型]利用有机固体废弃物制造氢气的装置-CN201820321670.7有效
发明人：周更新 -专利权人：周更新
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： C12M1/107 文献下载
摘要：本实用新型涉及利用有机固体废弃物制造氢气的装置，装置包括粉碎筛选装置、螺旋传送器、给料机、发酵室、高温裂解室、第一气体收集器、气体反应器、蒸汽发生器和第二气体收集器；高温裂解室与发酵室皆为圆柱体，其中高温裂解室分为三层，内层为制氢反应室，中层为燃烧室，外侧气体燃料供应室，燃烧室的热能向制氢反应室，又可通过管路输送至气体反应器，发酵室底部也可接受热能促进反应；发酵室产生的气体和制氢反应室产生的气体通过管道也进入第一气体收集器；第一气体收集器与气体反应器相连，气体反应器又连接于蒸汽发生器和第二气体收集器。
气体收集器气体反应器发酵室高温裂解室制氢反应燃烧室有机固体废弃物本实用新型蒸汽发生器氢气粉碎筛选装置气体燃料供应螺旋传送器管路输送气体通过生产氢气有机结合低成本高效率给料机可接受内层三层制造生物技术中层

[发明专利]一种半导体生产设备及其控制方法及装置-CN202211280013.X在审
发明人：余样楠 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本申请公开了一种半导体生产设备及其控制方法及装置，用以通过大流量气体清洗高温下的反应腔室，从而达到清洁反应腔室内部器件表面的效果，提高半导体产品良率。本申请提供的半导体生产设备，包括反应腔室，所述设备还包括：与所述反应腔室相连的气体输入装置，以及与所述反应腔室相连的气体输出装置；其中，所述气体输入装置用于向所述反应腔室输入气体；所述气体输出装置用于将所述反应腔室内的气体排出；半导体生产控制装置，用于在多个半导体产品的加工间隙，控制所述反应腔室达到预设温度，并持续预设时长，然后控制所述气体输入装置向所述反应腔室输入气体，以及控制所述气体输出装置将所述反应腔室内的气体排出。
一种半导体生产设备及其控制方法装置

[发明专利]一种气体脱杂水解复合罐及高炉煤气精脱硫系统-CN202110160564.1在审
发明人：许建明 -专利权人：上海轩鼎冶金科技有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C10K1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体脱杂水解复合罐及高炉煤气精脱硫系统，包括反应罐本体，反应罐本体沿径向设置气体入口和气体出口，反应罐本体内部设置3个网隔板，网隔板与反应罐的中心线平行设置，气体沿罐体径向流动，网隔板将反应罐本体内部分隔为气体分配室、脱杂室、催化水解室和气体集合室，气体入口设置在反应罐本体气体分配室侧，气体出口设置在反应罐本体集气室侧，脱杂室内放置脱杂剂，催化水解室内放置有机催化转化剂，气体从气体入口进入气体分配室、均匀分布流向脱杂室和催化水解室、在气体集合室汇合后通过出口排出，气体沿程阻力小，压力损失小，而且能够满足脱除高炉烟气中的有害杂质和催化水解有机硫化物。
一种气体水解复合高炉煤气脱硫系统

[发明专利]半导体机台的清洁方法-CN200910002545.5有效
发明人：李宗达;唐瑞麟;罗志添;钟国保 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2009-01-16 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：首先，对反应室进行第一清洁步骤，包括将清洁气体经由短反应气体注入管通入反应室中，以在反应室中产生清洁气体的等离子体。接着，对长反应气体注入管进行清洁步骤，包括将清洁气体经由长反应气体注入管通入反应室中。然后，对反应室进行第二清洁步骤，包括将清洁气体的等离子体经由短反应气体注入管通入反应室中。本发明的半导体机台的清洁方法能有效地清洁反应室内部以及反应气体注入管内壁。如此一来，能避免沉积于反应室内部以及反应气体注入管内壁的沉积物掉落至芯片上，以大幅提升芯片的产率与良率。
半导体机台清洁方法

[发明专利]气体产生器-CN201710123059.3有效
发明人：林信涌 -专利权人：林信涌
申请日： 2017-03-03 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C25B1/044 文献下载
摘要：本发明提供一种气体产生器，包含电解槽、混合反应室以及雾化室。电解槽用以电解容置其内的含有电解质的电解水而产生氢氧混合气体。混合反应室连接于电解槽，用以接收氢氧混合气体及雾化气体并混合形成保健气体。雾化室连接混合反应室，用以产生雾化气体后送至混合反应室。其中，混合反应室的最大孔径小于雾化室的最大孔径。本发明气体产生器藉由缩小混合反应室容量及装设防静电装置，以降低气体产生器内气爆的可能性。
气体产生器

[发明专利]气体反应连续腔及气体反应方法-CN201310249985.7在审
发明人：曾昭隆;廖科峰;邱文鼎;赵子铭;黄世壬;汪宇炎;黎胜;何文福 -专利权人：生阳新材料科技（宁波）有限公司
申请日： 2013-06-20 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应连续腔以及使用该气体反应连续腔的气体反应方法，该气体反应连续腔包含有依序排列的一预热腔室、一反应腔室及一冷却腔室，各个该腔室位于二隔离装置之间，该数个隔离装置使该数个腔室能呈气密状态，一输送装置位于该数个腔室及隔离装置内，用以带动一受反应物移动进而通过该数个腔室，该数个腔室分别设置用以朝向受反应物的顶面作用而调整其温度的上加热器，反应腔室及冷却腔室分别具有一反应气体输入口；藉此，本发明可使受反应物进行气体反应且具有良好之效率
气体反应连续方法

[实用新型]气体反应室监测窗-CN200820056565.1有效
发明人：顾琛;刘亮 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-03-25 - 公布日： 2009-01-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型揭露了一种气体反应室监测窗，其利用滑槽结构来限制保护盖板，而使得保护盖板仅可于滑槽所定义的平面内横向抽取，于是克服了先前技术中由于胶带逐渐失去粘性而使得保护盖板掉落甚至损坏的问题；同时保护盖板易于拆卸
气体反应监测

[发明专利]薄膜沉积过程-CN202110835864.5在审
发明人：井上尚树 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2021-07-23 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：该过程是一种通过原子层沉积(ALD)在室中的衬底上沉积薄膜的过程，其包括重复沉积循环以在衬底上沉积薄膜。沉积循环包括以下步骤：将反应气体和载气供给到室，并将浓度降低的源气体供给到室，以允许源气体吸附在衬底上；将反应气体和源气体供给到室，以允许源气体吸附在衬底上；将反应气体和载气供给到室，以从室中吹扫未吸附在衬底上的源气体；向室施加RF功率，以将反应气体转变成等离子体，使得允许由等离子体激活的源气体与衬底的表面接触；以及将反应气体和载气供给到室，以从室中吹扫未反应的源气体和反应气体。
薄膜沉积过程

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