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[实用新型]一种用于高效生产氮肥的装置-CN201620307135.7有效
发明人：田义 -专利权人：上海深果光电科技有限公司
申请日： 2016-04-13 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C05C13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于高效生产氮肥的装置，包括壳体，所述壳体的上端设有进料口，所述壳体内从上到下依次设有第一隔板和第二隔板，所述第一隔板的上方为反应室，所述第一隔板和第二隔板之间为搅拌室，所述反应室的顶部设有两个超声波雾化器，所述反应室的侧壁设有高压放电针，所述壳体的外侧壁设有高压发生器和支架，且支架位于高压发生器的下方，所述第一隔板上设有第一阀门，所述支架的上端设有驱动装置，所述驱动装置上设有转轴，所述转轴贯穿壳体的侧壁并延伸至搅拌室内
一种用于高效生产氮肥装置

[发明专利]内衬、反应腔室及半导体加工设备-CN201610351839.9在审
发明人：罗大龙 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种内衬、反应腔室及半导体加工设备，用于保护反应腔室的侧壁和底部腔室壁不被等离子体刻蚀，底部腔室壁接地。内衬包括内衬本体、环形约束层和环形接地层，其中，环形约束层环绕设置在内衬本体的内侧壁上，且低于、并靠近对被加工工件进行工艺的工艺位置，用以将等离子体约束在工艺位置所在平面之上；环形接地层环绕设置在内衬本体的内侧壁上，且位于该内侧壁的下端，并且环形接地层的下表面与底部腔室壁的上表面相贴合，以实现二者的电导通和热传递。
内衬反应半导体加工设备

[实用新型]一种废水的高级氧化处理系统-CN202120890191.9有效
发明人：熊卓 -专利权人：湖南宏祥万景环境工程有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C02F1/72 文献下载
摘要：本申请涉及一种废水的高级氧化处理系统，其包括多个反应室，所述反应室的上端可拆卸连接有密封盖，所述反应室相对的两竖直侧壁上均开设有与其内部连通的连接孔，所述连接孔中设有连接管，所述密封盖上设有加料管，所述加料管上设有第一阀门；所述反应室相对的两内壁上均设有安装座，所述安装座上设有水平设置的承托板，所述承托板远离安装座的一端转动设置有连接板，所述连接板上设有螺纹孔。改变处理工艺时，将反应室中的设备或装置取出，将新的设备通过安装座固定在反应室中即可。本申请具有灵活性高，便于适用多种工艺的效果。
一种废水高级氧化处理系统

[实用新型]一种用于半导体反应腔室的清洗装置-CN201420645775.X有效
发明人：陶懿宗;胡平 -专利权人：上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于半导体反应腔室的清洗装置，所述半导体反应腔室底部设置有旋转装置，所述清洗装置包括：一圆形容器，包括一底部、一侧壁及一顶部，所述顶部设置有开孔，所述侧壁设置有若干个小孔；一底座，所述底座的上部与所述圆形容器的底部固定连接本实用新型通过离心力,清洗装置内的去离子水会从装置边缘的小孔向四周甩出，喷洒到反应腔室的内壁上，由此起到清洁反应腔室内壁的效果，大幅降低反应腔室内壁残留的酸性物质，有效的提高产品的良率。
一种用于半导体反应清洗装置

[发明专利]一种机械加工用新型酸液循环利用系统-CN202011095948.1在审
发明人：夏必龙 -专利权人：芜湖元正模具机械有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： C23F3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种机械加工用新型酸液循环利用系统，反应槽内壁设有水平设置的环形凸起，环形凸起将所述容纳腔分隔为位于环形凸起上方的反应室和位于环形凸起下方的沉淀室，反应室顶部设有进液口且沉淀室侧壁设有出液口底部设有排渣口通过上述优化设计的机械加工用新型酸液循环利用系统，结构设计优化合理，通过环形凸起将反应室和沉淀室分离，防止反应室内进液和反应对沉淀室内的固体沉淀造成扰动，便于沉淀后的上层清液的循环利用，并且根据酸度检测装置的检测结果向循环液管内添加原酸，保证反应室内的反应效果。
一种机械工用新型循环利用系统

[实用新型]一种生物法处理污水的装置-CN201721580638.2有效
发明人：王宝霞;王翔;蒋亚茹;徐锐超;张火峰;宋丽;郑振洋;王莉;王书莲 -专利权人：河南桑达能源环保有限公司
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： C02F3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种生物法处理污水的装置，包括箱体，箱体内从上至下依次设置有若干隔板，所述箱体被隔板均分成若干反应腔室，每个反应腔室内均设有用于生物处理的填料；每个反应腔室的中部均沿竖直方向设有挡板，挡板的底部与该挡板所在反应腔室的底面之间有间距；位于最上面的反应腔室的顶部设有进水口，位于最下面的反应腔室侧壁的顶部设有出水口，每个隔板上均沿竖直方向固定有溢流管，所述进水口、溢流管及出水口从上至下呈左右交替布置；利用曝气泵对每个反应腔室曝气。本实用新型结构简单，制造方便，操作维护简便；整个箱体中水流呈“S”形态流动，污水在每个反应腔室内停留时间充足，且可连续出水，污水处理效率好。
反应腔室隔板挡板生物法处理污水本实用新型从上至下出水口反应腔进水口溢流管竖直生物处理污水处理效率室内操作维护交替布置连续出水依次设置曝气泵侧壁底面曝气停留污水流动制造

[实用新型]面板蚀刻设备-CN202123137021.2有效
发明人：黎志恒 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开一种面板蚀刻设备，包括激光清洁机构和真空的反应室，反应室内间隔设置有上部电极板和下部电极板，上部电极板设置在反应室的顶部，下部电极板设置在反应室的底部，激光清洁机构包括壳体，壳体上设置有第一开口，反应室的侧壁设置有第二开口，第一开口和第二开口密封对接，使壳体和反应室连通，壳体内设置有激光清洁头，激光清洁头的射线方向朝向反应室，上部电极板的下方活动设置有收集板，收集板用于收集上部电极板掉落的杂质通过设置激光清洁机构，可以在真空状态下对反应室内的杂质进行清除，在激光射线的作用下，上部电极板的杂质可以掉落在收集板上，由收集板进行统一收集。
面板蚀刻设备

[实用新型]聚酯树脂合成反应釜-CN201820601252.3有效
发明人：郑荣辉;毕海鹏;江蓉;张齐;王永垒;冯小浩 -专利权人：黄山市向荣新材料有限公司
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种聚酯树脂合成反应釜,其一级反应釜上设置有进料口和出料口，第一分隔板和第二分隔板将一级反应釜分隔成从上向下的第一反应室、第一降温室和第二反应室，第二反应室的侧壁设置有第一加药口；二级反应釜包括第二降温室和第三反应室，第二降温室通过连接通道与出料口相连通，第三反应室上设置有第二加药口和出料通道，加热装置的加热室内设置有加热机构，各反应室与加热室之间均通过加热通道相连通，加热通道上设置有升温调节机构以调节各反应室内反应温度上升的速度本实用新型提供的合成反应釜，使得各反应流程的反应温度及反应温度的上升速度均满足要求。
降温室反应室合成反应釜本实用新型第二反应室一级反应釜加热通道聚酯树脂出料口分隔板加药口室内二级反应釜出料通道从上向下反应流程加热机构加热装置降温装置连接通道加热室进料口侧壁分隔加热

[实用新型]有机挥发性气体光催化降解实验装置-CN201721584484.4有效
发明人：李智芳;杨长龙;崔金星;马媛媛;董少波 -专利权人：齐齐哈尔大学
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： B01D53/86 文献下载
摘要：该光催化降解实验装置包括有机气体缓冲室、光催化反应室、喷淋分室、光催化板件和UV紫外灯，有机气体缓冲室中设置有加热器，水蒸气发生器的蒸气喷头延伸至缓冲室中，缓冲室通过气管与光催化反应室相连通，光催化反应室通过隔板分成上部光催化区和下部喷淋室，在光催化区设置光催化板件和UV紫外灯，隔板与反应室的右侧壁之间留有通道。
有机挥发性气体光催化降解实验装置缓冲室光催化反应室有机气体隔板本实用新型光催化板光催化区水蒸气发生器加热器净化效果蒸气喷头反应室喷淋室右侧壁分室淋洗喷淋气管延伸

[实用新型]一种新型的大型无水三氯化铝密闭氯化炉-CN202223284792.9有效
发明人：金炜杰;金桂方 -专利权人：湖州恒吉科技股份有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C01F7/58 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种新型的大型无水三氯化铝密闭氯化炉，包括炉体，所述炉体内开设有反应室，且所述炉体的侧壁上开设有与反应室连通设置的进气口，所述炉体的下壁上开设有与反应室对应的开口，且开口处固定设置有盖板，所述盖板通过连接机构与炉体相连接，所述盖板上还贯穿固定设置有加热炉，所述盖板远离加热炉的一侧侧壁上固定设置有围板，所述围板围绕加热炉设置，所述炉体的侧壁上对称固定设置有两个撑座。本实用新型能够快速的对盖板进行安装和拆卸，方便物料的放入和残渣的清理，且在盖板安装后能够将盖板拉紧压在炉体上，大大提高了盖板的密封性，有效的避免反应中出现氯气泄漏的问题。
一种新型大型无水氯化铝密闭氯化

[实用新型]一种甲胺化反应装置-CN201620095364.7有效
发明人：沈建钢;叶敏;郑金锋;李维宏 -专利权人：江西胜富化工有限公司
申请日： 2016-01-30 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： C07C211/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种甲胺化反应装置，包括反应釜，所述反应釜内设有输气管，所述输气管的下端设有进气口，顶端设有排气口，所述反应釜内设有若干沿所述输气管轴向方向叠加的密封的反应室，所述反应室包括上层气体缓存筒、下层催化剂床层和气体填充腔，所述输气管与各气体缓存筒联通，所述气体缓存筒底部设有若干均匀分布的排气孔，所述催化剂床层位置对应的反应釜侧壁上设有卸料口，所述卸料口相对的反应釜侧壁上设有冷料进口。本实用新型的有益效果：多层反应室的设置使得气体原料与催化剂的接触面更大，极大的提高了甲胺的产量；气体缓存区能够使得气体原料与催化剂均匀接触，提高催化剂的催化效率。
一种甲胺化反应装置

[发明专利]一种用于棱柱式高温气冷堆的混合腔室结构-CN202110274580.3在审
发明人：董建华;张朔婷;张成龙;朱思阳;李呼昂;姚红;贺楷;杨长江;刘国明;汪俊 -专利权人：中国核电工程有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G21C5/02 文献下载
摘要：本发明属于反应堆技术领域，具体涉及一种用于棱柱式高温气冷堆的混合腔室结构，设置在棱柱式高温气冷堆的底部，包括由石墨构成的侧壁和金属材质的底板(3)共同构成的混合腔室(5)，侧壁和底板(3)之间密封连接，侧壁与棱柱式高温气冷堆的底部连接，在侧壁上还设有出口流道(6)，从棱柱式高温气冷堆的底部流出的冷却剂能够在混合腔室(5)内混合后经过出口流道(6)流出。本发明能够汇集、搅混、输运冷却剂，提高流出堆芯燃料区的冷却剂的均匀性，提高反应堆运行的安全性。
一种用于棱柱高温气冷混合结构

[发明专利]离子束蚀刻系统-CN201410323125.8有效
发明人：哈梅特·辛格;亚历克斯·帕特森 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-08 - 公布日： 2017-07-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：在各种实施方案中，从半导体衬底上的诸如沟槽、孔或柱等先前的蚀刻特征的侧壁上去除导电材料。在实施本文中的技术时，衬底设置在反应腔室中，反应腔室被成波纹状的离子提取板分隔成上方等离子体产生腔室和下方处理腔室，孔隙贯通所述离子提取板。提取板呈波纹状，使得等离子体鞘遵循提取板的形状，使得离子以相对于衬底成角度地进入下方处理腔室。如此，在处理期间，离子能够穿透进入先前蚀刻的特征并且在这些特征的侧壁上撞击衬底。通过该机制，可以去除特征的侧壁上的材料。
离子束蚀刻系统

[发明专利]离子束蚀刻系统-CN201710479405.1有效
发明人：哈梅特·辛格;亚历克斯·帕特森 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-08 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：在各种实施方案中，从半导体衬底上的诸如沟槽、孔或柱等先前的蚀刻特征的侧壁上去除导电材料。在实施本文中的技术时，衬底设置在反应腔室中，反应腔室被成波纹状的离子提取板分隔成上方等离子体产生腔室和下方处理腔室，孔隙贯通所述离子提取板。提取板呈波纹状，使得等离子体鞘遵循提取板的形状，使得离子以相对于衬底成角度地进入下方处理腔室。如此，在处理期间，离子能够穿透进入先前蚀刻的特征并且在这些特征的侧壁上撞击衬底。通过该机制，可以去除特征的侧壁上的材料。
离子束蚀刻系统

[发明专利]一种喷射反应器及纳米碳酸钙的碳化反应系统-CN201610346933.5在审
发明人：杨光贵 -专利权人：广西平南县恒祥钙业有限公司
申请日： 2016-05-24 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： C01F11/18 文献下载
摘要：本发明公开一种喷射反应器，包括接受室、喉管、扩散室、连接管、液体喷出口，所述的接受室的顶部设有进液管，接受室的侧壁设有进气管，所述的接受室的底部与喉管的上端连接，所述的喉管的下端与扩散室的上端连接，所述的扩散室的下端与连接管的上端连接本发明还公开一种纳米碳酸钙的碳化反应系统，应用了所述的喷射反应器，还包括碳化反应塔、碳化缓冲塔、窑气缓冲罐。本发明连续化程度高，反应速度快，降低能耗，减少空压机等大型设备的投资，特别适合于粒度分布窄的纳米碳酸钙的合成。
一种喷射反应器纳米碳酸钙碳化反应系统