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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]原子层沉积设备-CN202022741776.2有效
发明人：林俊成;易锦良;许雲齐;姚信宇 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型是一种原子层沉积设备。原子层沉积设备包括腔体、基材载台、中空部件与挡件，其中中空部件具有抽气孔且其底部的一部份对应设置于基材载台的上方。所述上与下抽气路径分别包括第一纵向距离与第二纵向距离，其中第一与第二纵向距离之间的比例可受调整，进而调节腔体内的制程流体的流场，以使原子层沉积制程中的基材可受前驱物均匀的沉积。
原子沉积设备

[实用新型]原子层沉积设备-CN202120517667.4有效
发明人：明帅强;冯嘉恒;夏洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所嘉兴微电子仪器与设备工程中心
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种原子层沉积设备，包括：壳体，所述壳体内有腔室；前驱体通入管路，部分所述前驱体通入管路穿过所述壳体，设置在所述腔室的顶部；抽气组件，连通于所述腔室的底部；加热件，用于为所述腔室加热。该原子层沉积设备，可以用于处理石墨盘，前驱体通入管路穿过壳体的一端位于腔室的顶部，抽气组件位于腔室的底部，能够使经由前驱体通入管路输送到腔室内的前驱体气流单向流动，能够缩短工艺吹扫时间，便于在石墨盘上形成一层致密的材料
原子沉积设备

[实用新型]原子层沉积装置-CN202120422464.7有效
发明人：陈明胜;吴志清;郭进忠 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型是一种原子层沉积装置，包括腔体、前驱物进气口、加热台、载盘、中空部件与挡件。当加热台与载盘受到升降装置驱动并靠近中空部件，载盘与挡件将围绕出反应空间，并使制程流体(例如，前驱物或涤洗气体)的流场被稳定地调控，进而使基材受前驱物均匀地沉积。
原子沉积装置

[外观设计]原子层沉积设备-CN201730600323.9有效
发明人：杭天华 -专利权人：江苏微导纳米装备科技有限公司
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于单晶或多晶硅片电池片镀膜。3．本外观设计产品的设计要点：在于产品的形状。
外观设计原子层沉积设备多晶硅片电池不可见省略单晶镀膜仰视图片

[外观设计]原子层沉积设备-CN201730104877.X有效
发明人：杭天华 -专利权人：江苏微导纳米装备科技有限公司
申请日： 2017-04-01 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称原子层沉积设备。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于锂电池生产。3．本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
原子沉积设备

[外观设计]原子层沉积系统-CN201830204173.4有效
发明人：郑文岸;张光海;李哲峰 -专利权人：深圳市原速科技有限公司
申请日： 2018-05-08 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： 24-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：原子层沉积系统。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于原子层薄膜沉积。3．本外观设计产品的设计要点：产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。
外观设计原子层沉积系统原子层薄膜沉积图片

[外观设计]原子层沉积设备-CN201930079548.3有效
发明人：李丙科 -专利权人：无锡松煜科技有限公司
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于单晶或多晶硅片电池片镀膜。3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的外形。
外观设计原子层沉积设备多晶硅片电池单晶镀膜图片

[外观设计]原子层沉积设备-CN202030175345.7有效
发明人：陈蓉;闫占奎;刘潇;单斌 -专利权人：华中科技大学无锡研究院
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。2.本外观设计产品的用途：用于对纳米粉末颗粒的表面进行原子层沉积，实现纳米粉末材料的修饰和改性。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
原子沉积设备

[外观设计]原子层沉积设备-CN202230485482.X有效
发明人：赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。2.本外观设计产品的用途：利用原子沉积技术给硅片或粉末制备薄膜的设备。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
原子沉积设备

[发明专利]原子层沉积室-CN201680089470.7在审
发明人：马托·克内兹;迈克尔·贝尔特兰;大卫·塔拉韦拉埃吉萨瓦尔;梅塞德斯·维拉华雷斯 -专利权人： CIC纳米技术公司;涂层技术有限公司
申请日： 2016-09-22 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：原子层沉积室(1)，包括室主体(2)和室盖子(3)，并且还包括至少一个分隔板(4)，所述分隔板(4)限定所述室主体(2)中的不同内部容积(5)，这些内部容积(5)中的每一个具有入口(6)和出口(7)。本发明还涉及一种原子层沉积设备，包括所述原子层沉积室(1)。
原子层沉积室分隔板室主体原子层沉积设备盖子出口

[发明专利]原子层沉积方法-CN200380108641.9有效
发明人： T·T·多恩;G·T·布拉洛克;G·S·桑胡 -专利权人：微米技术有限公司
申请日： 2003-11-12 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：使第一前驱气体流向室内的基底，从而有效地在所述基底上形成第一单分子层。在所述室内，在表面微波等离子体条件下，使组成与第一前驱气体不同的第二前驱气体流向所述室内的第一单分子层，从而有效地使之同所述第一单分子层反应并在所述基底上形成第二单分子层，所述第二单分子层的组成与所述第一单分子层不同所述第二单分子层包括所述第一单分子层和第二前驱气体的成分。在一种实施方式中，连续重复所述第一和第二前驱气体的流动，从而有效地在所述基底上形成大量具有所述第二单分子层的组成的材料。
原子沉积方法

[发明专利]原子层沉积设备-CN201680008200.9有效
发明人：维罗·鲁道夫·茨尔曼斯;马丁·迪南特·比克尔;厄恩斯特·杜勒麦格;吉多·利耶斯特 -专利权人：斯密特热能解决私人有限公司
申请日： 2016-01-14 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：涉及原子层沉积设备(1)，包括：框架(2)；注射器头(40)，设有纵向狭槽用于分别将气体供应到由纵向狭槽和基板(8)约束的相应沉积空间(41‑47)，其中纵向狭槽定向成横向于基板相对于注射器头(40)在第一方向
原子沉积设备

[发明专利]原子层沉积方法-CN03818269.6有效
发明人： P·J·卡斯特罗维洛;C·巴谢瑞;G·J·德尔德瑞茵;G·S·桑德霍 -专利权人：微米技术有限公司
申请日： 2003-07-21 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种原子层沉积方法，包括将半导体基材放置在原子层沉积室内。第一前体气体流过原子层沉积室内的基材上以在基材上有效形成第一单层。在形成第一单层后，反应性中间体气体流向沉积室内的基材。在反应性中间体流过后，第二前体气体流向沉积室内的基材，以在第一单层上有效形成第二单层。本发明还考虑了其它方面和实施方案。
原子沉积方法

[发明专利]原子层沉积法-CN200880118748.4无效
发明人：阿里莱尼·达默龙 -专利权人： HCF合伙人股份两合公司
申请日： 2008-10-30 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明提供使用原子层沉积方法以保护性材料的薄膜选择性地涂覆包括第一和第二材料的基材表面的方法。
原子沉积

[发明专利]原子层沉积装置-CN200780011685.8无效
发明人： D·H·李维 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2007-03-14 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在基材(20)上沉积薄膜物质的分配歧管(10)，所述分配歧管包括多个用于序列气态物质的入口(18)，包括多个开放的伸长输出通道(12)的输出面，各通道以长度方向实质平行延伸。所述分配歧管(10)可用于沉积薄膜的沉积系统，且进一步包括用于多种气态物质的多个源，和用于使基材按预定紧密接近分配歧管(10)输出面定位的载体。在系统操作期间，完成输出面和基材载体之间的相对移动。
原子沉积装置

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