专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于处理基板的方法和装置-CN201610196054.9在审
  • 安恩锡;闵忠基;李正悦;朴珉贞 - 细美事有限公司
  • 2016-03-31 - 2016-10-12 - G03F7/16
  • 该方法用于处理基板,且包括:液体供应步骤,其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体;以及液体扩散步,其在液体供应步骤之后,通过使基板旋转来使被排出到基板上的处理液体扩散。所述液体扩散步包括:主扩散步,其使基板以第一扩散速度旋转;以及二次扩散步,其在主扩散步之后,使基板以第二扩散速度旋转。第二扩散速度高于第一扩散速度。因此,能够通过执行二次扩散步再次向基板涂覆处理液体,使得可以调整感光膜的厚度。
  • 用于处理方法装置
  • [发明专利]用于处理基板的方法和装置-CN202111648008.5在审
  • 安恩锡;闵忠基;李正悦;朴珉贞 - 细美事有限公司
  • 2016-03-31 - 2022-05-13 - G03F7/16
  • 该方法用于处理基板,且包括:液体供应步骤,其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体;以及液体扩散步,其在液体供应步骤之后,通过使基板旋转来使被排出到基板上的处理液体扩散。所述液体扩散步包括:主扩散步,其使基板以第一扩散速度旋转;以及二次扩散步,其在主扩散步之后,使基板以第二扩散速度旋转。第二扩散速度高于第一扩散速度。因此,能够通过执行二次扩散步再次向基板涂覆处理液体,使得可以调整感光膜的厚度。
  • 用于处理方法装置
  • [发明专利]一种可控硅的生产工艺-CN201210248841.5有效
  • 耿开远;周建;朱法扬 - 启东吉莱电子有限公司
  • 2012-07-18 - 2012-11-21 - H01L21/332
  • 本发明公开了一种可控硅的生产工艺,包括双面抛光片步骤、氧化步骤、光刻穿通步骤、进行穿通扩散步、光刻阴极步骤、阴极扩散步、光刻台面槽步骤、化学腐蚀台面槽步骤、光刻阴极门极槽步骤、化学腐蚀阴极门极槽步骤、玻璃钝化步骤、光刻引线孔步骤、正面蒸铝步骤、铝反刻步骤、铝合金步骤、背面喷砂步骤、背面金属化步骤、芯片测试步骤、划片步骤和芯片包装步骤,其特征在于:所述进行穿通扩散步和光刻阴极步骤之间增加了短基区扩散步,所述短基区扩散步包括镓预淀积步骤和镓再分布步骤
  • 一种可控硅生产工艺
  • [发明专利]一种提高单分散的碳纳米管分散液浓度的方法-CN201910232659.2有效
  • 杨德华;刘华平;魏小均;周维亚;解思深 - 中国科学院物理研究所
  • 2019-03-26 - 2021-12-03 - C01B32/174
  • 本发明提供了一种提高单分散的碳纳米管分散液浓度的方法,所述方法包括以下步骤:1)制备碳纳米管材料与表面活性剂溶液的初始分散液;2)将步骤1)得到的碳纳米管的初始分散液离心,收集上层分散液;3)分散2)得到的上层分散液;4)将步骤3)得到的分散液离心,取上层分散液,即得。本发明通过分散‑离心‑再分散‑再离心的方式,去除了分散液中的杂质成分以及难以分散的碳纳米管团聚物,将分散设备输出的能量集中于小碳纳米管束的分散,保证了碳纳米管的充分分散,节省了总的能耗和样品的制备时间,尤其适合于含有杂质较多的碳纳米管以及高浓度碳纳米管分散液的制备。
  • 一种提高分散纳米浓度方法

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