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[发明专利]处理系统、信息处理装置、处理装置以及处理方法-CN201611243738.6在审
发明人：佐佐木茂彦 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2017-12-19 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种处理系统、信息处理装置、处理装置以及处理方法，该处理系统包括接受单元、第一传输单元、获取单元以及第二传输单元。所述接受单元接受用于进行处理的指令。所述第一传输单元将所述指令传输至处理装置。所述获取单元获取用于识别替代装置的识别信息，该替代装置代表所述处理装置进行由所述传输的指令所指示的处理的至少一部分。
处理系统信息处理装置以及方法

[发明专利]处理系统、显示系统、处理装置、处理方法以及处理程序-CN202080107027.4在审
发明人：小池雄介 -专利权人：住友电气工业株式会社
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01L5/1627 文献下载
摘要：处理系统具备：切削工具；传感器，其安装于所述切削工具；AD(Analog Digital)变换器，其通过对从所述传感器输出的模拟信号进行采样而生成数字信号；以及处理部，所述处理部基于以旋转轴为中心旋转的旋转体的转速[rpm]、作为处理周期的上限值的上限周期、以及作为角度间距[degree]的上限值的上限间距，来决定用于使所述AD变换器在所述上限周期以下的所述处理周期内，在所述旋转体旋转N圈所需的期间内以所述角度间距的设定值为所述上限间距以下的方式进行采样的采样频率以及所述处理周期，所述处理周期是进行使用了由所述AD变换器生成的所述数字信号的预定处理的周期，所述角度间距[degree]是在表示旋转圆中的所述AD变换器的采样时间点的相位的坐标系中相邻的两个采样时间点之间的旋转角，所述旋转圆是伴随着所述旋转体的旋转而绕所述旋转轴旋转的点的轨迹
处理系统显示装置方法以及程序

[发明专利]处理系统、显示系统、处理装置、处理方法以及处理程序-CN202080098834.4有效
发明人：小池雄介;东浦佑真 -专利权人：住友电气工业株式会社
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B23Q17/09 文献下载
摘要：处理系统具备铣削加工用的切削工具、多个传感器以及处理部，所述多个传感器对表示与切削加工时的所述切削工具的负荷相关的状态的物理量进行测量，所述处理部基于多个测量时间点下的各所述传感器的测量结果而生成测量数据，所述测量数据包含每个所述测量时间点下的与所述负荷相关的二维数据，所述负荷是与所述切削工具的旋转轴垂直的平面内的两个方向上的负荷，所述处理部基于所生成的所述测量数据表示的二维形状，来进行与使用了所述切削工具的切削加工相关的判定处理
处理系统显示装置方法以及程序

[发明专利]处理隧道的处理模块、处理隧道和处理模块的生产设备-CN202110497176.2在审
发明人：乔斯·华金·赫雷拉·德·拉·托雷;福尔克尔·佩因德尔;彼得·纳菲尔;维尔弗里德·明斯特曼 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： B23Q41/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种用于处理隧道的处理模块、处理隧道和处理模块的生产设备，该处理隧道在纵向方向(L)上包括依次布置的处理模块(100)，该处理模块包括至少一个内壳体(102)，其具有至少一个由预制的镶板(10
处理隧道模块生产设备

[发明专利]处理方法、数据处理方法、处理装置和数据处理装置-CN201710914731.0有效
发明人：张雅;方伟强 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G06F3/0488 文献下载
摘要：本公开提供了一种处理方法，应用于第一电子设备，包括：获得输入装置采集的操作数据；确定工作模式，其中，所述工作模式包括：第一模式，其中，在所述第一模式下，向第一电子设备传输所述操作数据；第二模式，其中，在所述第二模式下本公开还提供了一种数据处理方法、一种处理装置以及一种数据处理装置。
处理方法数据处理装置

[发明专利]信息处理设备、信息处理方法、处理设备和处理方法-CN201310015437.8有效
发明人：石田卓也;佐藤清秀;远藤隆明;石川亮 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： A61B8/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种信息处理设备、信息处理方法、处理设备和处理方法。所述信息处理设备包括：区域获得单元，用于获得被检体的特定区域；断层图像获得单元，用于获得所述被检体的断层图像；以及显示控制单元，用于使显示单元显示表示所述特定区域在所获得的所述断层图像中的存在概率的区域
信息处理设备方法处理

[发明专利]处理装置、代替处理装置、中继装置、处理系统及处理方法-CN201710282555.3有效
发明人：大野毅;江间伸明 -专利权人：横河电机株式会社
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H04L12/26 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，其具有：通信部，其进行经由网络的通信；处理部，其经由所述通信部，将与取代所述处理装置进行处理的代替处理装置共通的第1识别信息，向所述处理装置和所述代替处理装置中的任一者互斥地分配而进行所述处理；以及心跳发送部，其经由所述通信部，使用与所述第1识别信息不同的第2识别信息，将对所述处理为正常的情况进行通知的心跳信息在中继装置进行中继而发送至所述代替处理装置。
处理装置代替中继系统方法

[发明专利]热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法-CN201710704464.4有效
发明人：春本将彦;浅井正也;田中裕二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此，对基板上的DSA膜进行热处理。
热处理装置处理方法

[实用新型]处理隧道的处理模块、处理隧道和处理模块的生产设备-CN202120963885.0有效
发明人：乔斯·华金·赫雷拉·德·拉·托雷;福尔克尔·佩因德尔;彼得·纳菲尔;维尔弗里德·明斯特曼 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： B23Q41/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种用于处理隧道的处理模块、处理隧道和处理模块的生产设备，该处理隧道在纵向方向(L)上包括依次布置的处理模块(100)，该处理模块包括至少一个内壳体(102)，其具有至少一个由预制的镶板(10
处理隧道模块生产设备

[实用新型]处理设备的处理隧道的舱室模块、处理隧道和处理设备-CN202121837627.4有效
发明人：杜东·阮;苏林·韦勒 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： E04H5/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理设备的处理隧道的舱室模块、处理隧道和处理设备，该舱室模块包括纵向方向(L)，该舱室模块用于处理设备(200)的处理隧道(110)，其中处理隧道(110)包括至少一个舱室模块(100)；
处理设备隧道舱室模块

[发明专利]处理盒的回收处理方法及处理盒-CN201610679244.6在审
发明人：张为志 -专利权人：纳思达股份有限公司
申请日： 2016-08-16 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： G03G21/18 文献下载
摘要：本申请涉及成像装置技术领域，尤其涉及一种处理盒的回收处理方法及处理盒。处理盒包括主壳体以及沿主壳体的长度方向安装在主壳体端部的端盖，主壳体上具有沿主壳体的长度方向延伸的外表面及与端盖相对的侧表面，端盖与主壳体在外表面的末端处和侧表面有重叠区。该回收处理方法包括在端盖和主壳体的重叠区加工定位孔，以使定位孔同时位于端盖和主壳体上；将定位件插入定位孔内，使定位件与定位孔定位配合。回收处理操作执行完毕后，将定位件插入定位孔内，以促使端盖和主壳体的相对位置与回收处理之前保持一致。所以，采用该回收处理方法可以使得端盖与主壳体在回收处理前后始终保持较高的装配精度，以此提高处理盒的显影质量。
处理回收方法

[发明专利]基板处理装置、处理液以及基板处理方法-CN201980049434.1在审
发明人：奥谷学;阿部博史;屋敷启之 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(1)具备基板保持部(2)、处理液供给部、加热部(5)以及液体去除部。基板保持部(2)将基板(9)保持为水平状态。处理液供给部将表面张力比IPA高的处理液供给至基板(9)的上表面(91)，由此形成覆盖基板(9)的上表面(91)的整面的处理液的液膜。
处理装置以及方法

[发明专利]处理设备、处理系统、处理方法和程序-CN202080059425.3在审
发明人：内村淳;田原裕司;富田莉奈;加增康代 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H04N7/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种处理设备(10)，包括：获取单元(11)，用于获取由监视相机生成的视频；生成单元(12)，用于基于视频生成要监视的多个视频内容；条件设定单元(13)，用于设定检查要监视的视频内容的监视人物所需的监视人物条件
处理设备系统方法程序

[发明专利]处理模块、基板处理系统以及处理方法-CN202111579992.4在审
发明人：山岸孝幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够降低占地面积的处理模块、基板处理系统以及处理方法。处理模块在处理模块的内部具有以两行两列的方式布局的四个载置台，构成布局的行间隔和列间隔为不同的尺寸。
处理模块系统以及方法

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及处理液-CN202180060520.X在审
发明人：吉田幸史;田原香奈 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-07-08 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种基板处理方法，包括：处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使前述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于前述基板的表面形成处理膜；蚀刻成分形成工序，对前述处理膜进行蚀刻成分形成处理，由此在前述处理膜中形成蚀刻成分；蚀刻工序，通过在前述蚀刻成分形成工序中形成的蚀刻成分来蚀刻前述基板的表层部；以及处理膜去除工序，对前述处理膜的表面供给剥离液，由此将前述处理膜从前述基板的表面剥离从而将前述处理膜从前述基板的表面去除。
处理方法装置以及