专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]拖鞋(厚底面包款)-CN202330159912.3有效
  • 白珊阁 - 白珊阁
  • 2023-03-29 - 2023-07-21 - 02-04
  • 1.本外观设计产品的名称:拖鞋(厚底面包款)。2.本外观设计产品的用途:本产品用于脚部穿着。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 拖鞋底面
  • [外观设计]棉鞋(厚底面包款)-CN202330292190.9有效
  • 李阿米 - 李阿米
  • 2023-05-18 - 2023-09-22 - 02-04
  • 1.本外观设计产品的名称:棉鞋(厚底面包款)。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于脚部穿着。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 棉鞋底面
  • [发明专利]一种底面清洗装置-CN202211570591.7在审
  • 许刚;刘远航;杨晓良;马旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-08 - 2023-06-06 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种底面清洗装置,安装在晶圆减薄设备的基座上,所述晶圆减薄设备包括在晶圆磨削过程中使用的工作台和磨削机械手,所述底面清洗装置用于清洗磨削之后的晶圆底面和/或磨削机械手的底面,位于工作台的旁边并处于磨削机械手的移动轨迹上;所述底面清洗装置包括向上喷射液体或气体的喷淋件,用于对晶圆和/或磨削机械手的底面进行非接触式的清洗和/或干燥。
  • 一种底面清洗装置
  • [发明专利]支座铣底面、钻孔机构-CN201010126381.X有效
  • 孙效 - 孙效
  • 2010-03-18 - 2010-08-18 - B23Q3/06
  • 一种支座铣底面、钻孔机构,右旋滑块和左旋滑块分别装在丝杠两端的对应螺柱上,连同丝杠装在体前面的槽中,丝杠在它的轴线方向被左挡板和右挡板挡住,有较小的间隙,槽盖板用沉头螺钉装在体前面的槽的上面,旋转圆柱装在丝杠小端的孔中
  • 支座底面钻孔机构
  • [发明专利]光敏的防反射底面涂层-CN200710005128.7有效
  • D·J·古尔瑞罗 - 布鲁尔科技公司
  • 2003-07-28 - 2007-07-18 - C08G75/24
  • 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上,形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时,所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶,使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去,由此取消单独的除去步骤。
  • 光敏反射底面涂层

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