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[发明专利]两面曝光装置及两面曝光方法-CN201811283713.8在审
发明人：名古屋淳 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的是在一对掩模的校准的同时也要求对于基板的校准的两面曝光装置中，有效地解决在基板标记从照相机的视野脱离的状态下基板停止的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。
基板校准掩模照相机两面曝光装置开口输送系统校准标记进给曝光摄影基板标记间歇性地曝光单元摄影数据校准机构位置处下基板有效地回送拉出照射视野脱离配置

[发明专利]两面曝光装置及两面曝光方法-CN201811284543.5在审
发明人：名古屋淳 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)间歇性地进给的基板(W)的位置的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，根据来自对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影的照相机(8)的摄影数据，校准机构进行校准。在没有经由校准用开口(Wm)拍摄到掩模标记(31、41)而被遮挡的情况下，将前次曝光时的校准完成时的掩模标记(31、41)的位置从存储部(60)读出，以该位置为基准计算用来将遮挡消除的移动量，使掩模(3
掩模校准校准标记基板遮挡曝光开口掩模标记照相机两面曝光装置基准计算间歇性地曝光单元摄影数据输送系统校准机构存储部完成时移动量进给摄影读出照射拍摄移动配置

[发明专利]两面曝光装置-CN201010250677.2有效
发明人：佐藤善彦;友永竹彦 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2010-08-10 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。
两面曝光装置

[发明专利]两面曝光装置-CN201811284435.8有效
发明人：名古屋淳 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。
两面曝光装置

[发明专利]两面曝光装置-CN200810168024.2无效
发明人：浅见正利 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2008-09-25 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。
两面曝光装置

[发明专利]辊到辊两面曝光装置-CN201710059526.0有效
发明人：浅见正利 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辊到辊两面曝光装置，提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。通过搬运系统(1)将辊状的片状基板(S)拉出并在曝光区域中通过地搬运，通过设置在曝光区域的两侧的一对光源(2)、光学系统(3)以及掩膜(41、42)，按照掩膜(41、42)的图案照射光对片状基板(S)进行曝光在曝光的间隙，升降机构(51、52)是各掩膜(41、42)升降，成为各掩膜(41、42)与表面具有粘贴层的一对清洗辊(61、62)接触的状态，各清洗辊(61、62)在各掩膜(41、42)上转动并且通过辊移动机构
辊到辊两面曝光装置

[发明专利]一种实现PCB板两面曝光图形对准的方法-CN201210349927.7无效
发明人：吴俊 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2012-09-18 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种实现PCB板两面曝光图形对准的对位方法，工件台上放置PCB板，PCB板的上方设有CCD相机，PCB板的下方设有打标装置；PCB板正面曝光时，打标装置在PCB板反面产生对位标记，翻转PCB板后，CCD相机抓取反面的对位标记进行对位，从而实现PCB板两面曝光图形对准。本发明实现了PCB板两面曝光图形的对准，流程简单，对位精度高。
一种实现 pcb 两面曝光图形对准方法

[发明专利]带状工件的两面投影曝光装置-CN200410047570.2无效
发明人：泷浦博文;后藤学 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2004-05-24 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种两面投影曝光装置，能够在带状工件的两面同时曝光图形，即使工件在曝光中热膨胀也不产生模糊或偏斜。将从开卷滚(1)放出的带状工件(W)送入曝光部(5)，在曝光中，利用第1张力赋予机构(11)、第2张力赋予机构(未图示)，向传送方向和与其垂直的方向，施加假设的热膨胀程度的张力，在该状态下，将其保持在工件保持机构位置对合结束后，借助掩模(M1、M2)和投影透镜(31、32)，从光照射部(41、42)照射曝光用光，同时曝光带状工件W的表面和背面。
带状工件两面投影曝光装置

[发明专利]激光成像系统中实现电路板两面曝光图形对准的对位方法-CN201210122886.8无效
发明人：王艳升;何少峰;刘文海 -专利权人：合肥芯硕半导体有限公司
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光成像系统中实现电路板两面曝光图形对准的对位方法，工作平台上放置电路板载板，载板上开有小孔，载板的上方设有CCD摄像机，载板的下方设有喷墨机；电路板A面曝光时，喷墨机在电路板B面打印对位标记图形，翻转电路板对电路板B面进行曝光，电路板B面曝光时，CCD摄像机抓取对位标记图形进行对位，从而实现电路板A、B面曝光图形对准。本发明实现了在激光直写曝光机曝光内层电路板时两面的曝光图形对准，避免了两面图形曝偏的风险。
激光成像系统实现电路板两面曝光图形对准对位方法

[实用新型]多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统-CN201620060013.2有效
发明人：张伟;赵华;张伟;徐巍;王翰文;马汝治 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路，DMD集成组件的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。与现有的单工件台扫描曝光形式相比，本实用新型通过在被曝光工件两边垂直设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使用DMD器件作为投影光路的图形发生装置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z轴移动，对被曝光工件进行双面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，同时保证了产品的质量。
交叉布置 dmd 投影激光双面曝光系统

[发明专利]一种PCB板光标打印装置及其打印方法-CN201810731942.5在审
发明人：蔡志国;余加辉;钟惠良 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种PCB板光标打印装置及其打印方法，本发明涉及光学设备领域，克服现有技术的PCB板上同一位置正反两面的定位光标存在位移偏差的缺陷。包括有用于PCB板光标打印的曝光装置，所述的光标打印装置还包括有底座，所述的底座的相对的两个面上分别设有曝光装置安装槽，曝光装置安装槽内分别安装有一个曝光装置，两个曝光装置相对设置，所述的底座上还设有连通两个曝光装置安装槽的光学通道本发明的PCB板光标打印装置上相对设置有两个曝光装置，两个曝光装置的光学通道重合，两个曝光装置分别对PCB板同一位置的上下两面进行光标打印，从而使正反两面的定位光标不存在位移偏差。
曝光装置光标打印装置光学通道打印安装槽底座定位光标同一位置位移偏差相对设置正反两面光学设备定位槽重合连通垂直

[实用新型]一种PCB板光标打印装置-CN201821060217.1有效
发明人：蔡志国;余加辉;钟惠良 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光学设备领域，克服现有技术的PCB板上同一位置正反两面的定位光标存在位移偏差的缺陷。包括有用于PCB板光标打印的曝光装置，所述的光标打印装置还包括有底座，所述的底座的相对的两个面上分别设有曝光装置安装槽，曝光装置安装槽内分别安装有一个曝光装置，两个曝光装置相对设置，所述的底座上还设有连通两个曝光装置安装槽的光学通道本实用新型的PCB板光标打印装置上相对设置有两个曝光装置，两个曝光装置的光学通道重合，两个曝光装置分别对PCB板同一位置的上下两面进行光标打印，从而使正反两面的定位光标不存在位移偏差。
曝光装置光标打印装置光学通道安装槽底座本实用新型定位光标同一位置位移偏差相对设置正反两面打印光学设备定位槽重合连通垂直

[实用新型]一种曝光能量均匀性测试装置-CN201020258732.8有效
发明人：何春 -专利权人：深圳市深联电路有限公司
申请日： 2010-07-14 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光能量均匀性测试装置，包括曝光盘，所述曝光盘上均匀设置有多个基板，所述基板的两面设置有曝光尺。本实用新型通过将曝光尺设置在基板两面的覆铜板上，并将该覆铜板均匀放置在曝光盘上。在PCB板曝光之前对曝光机的曝光均匀性进行测试，以控制曝光均匀度，达到曝光均匀的目的。与现有技术相比，本实用新型具有成本低，制作简单，操作方便、快捷，可重复利用等优点。
一种曝光能量均匀测试装置

[发明专利]薄型卷料线路板及其制作方法-CN202310772243.6有效
发明人：周才雄;杨鸣亮 -专利权人：苏州维信电子有限公司;盐城维信电子有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄型卷料线路板及其制作方法，包括利用双面胶将两个卷料单面基板背靠背贴合，形成待曝光卷料基板；提供待曝光卷料基板两面的曝光底片；两面曝光底片上的线路图案呈镜像对称，且外边缘沿拉料方向存在预设长度的错位和/或沿预设方向存在预设宽度的错位，预设方向与拉料方向垂直；利用两面曝光底片对待曝光卷料基板进行线路曝光，提供形成的待贴膜线路基板两面的保护膜，并贴合到待贴膜线路基板的两面上；对形成的卷料双面线路板进行背靠背分离，得到两个卷料单面线路板。本发明基于线路图案镜像对称且存在错位的曝光底片，结合背靠背制作工艺，改善了薄型生产基材在生产制程中的褶皱、气泡和涨缩等问题。
薄型卷料线路板及其制作方法

[发明专利]掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法-CN201811451346.8在审
发明人：名古屋淳 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。
掩模基板辅助掩模掩模标记两面曝光装置校准重合相机作业位置曝光位置处开口并用保留摄影

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