[发明专利]水溶性正性光致抗蚀组合物无效
| 申请号： | 99808863.3 | 申请日： | 1999-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN1310731A | 公开（公告）日： | 2001-08-29 |
| 发明（设计）人： | I·麦卡洛克;A·J·伊斯特;M·康;R·基塞;H－N·勇 | 申请（专利权）人： | 克拉里安特国际有限公司 |
| 主分类号： | C08F246/00 | 分类号： | C08F246/00;C08F8/48;G03F7/023 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种形成正性光致抗蚀剂的水溶性聚合物,这种光致抗蚀剂可用在i－线波长下曝光。该聚合物主要是由通过键合基团连接有两个侧基的主链构成的。第一侧基基团是β－氧代羧酸盐部分。该官能基团的功能是在经热消去反应发生极性转变而变为不溶于水的酮。第二键合基团使重氮萘醌部分经4－磺酸盐基团连接到主链上。DNQ部分经通常的光化学重排转变为溶于水的茚羧酸。将光致抗蚀剂涂布在基片上后,通过加热使光致抗蚀剂涂膜转变成不溶于水的状态,这种加热作用使β－氧代羧酸盐经Hoffman降解反应和脱羧酸作用而释放出氨和CO2并产生脂族酮。其后,在曝光制造步骤中,不溶于水的光致抗蚀剂的DNQ部位经受通常的光化学重排反应,重排反应会形成茚羧酸。在曝光区域含高极性羧酸基的聚合产物现在是溶于水性碱显影液。由于起始聚合物经受两次溶解度转变,从溶于水到不溶于水(加热后)和又转变回溶于水(辐照后),因此,在水性碱溶液中显影时,可使光致抗蚀剂涂层形成正象。 | ||
| 搜索关键词： | 水溶性 正性光致抗蚀 组合 | ||
【主权项】：
1．一种特别适用作光致抗蚀剂的聚合物，该聚合物有如下的结构：式中R1-R4各自为H,(C1-C5)烷基或(C1-C5)烷氧基，X是C=O,OCO,CONH,O，芳基(C1-C5)烷基。
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