[发明专利]抛光组合物有效

专利信息
申请号: 99111114.1 申请日: 1999-07-23
公开(公告)号: CN1131288C 公开(公告)日: 2003-12-17
发明(设计)人: 李吉成;李在锡;金硕珍;李荣基;张斗远 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: C09G1/08 分类号: C09G1/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 丁业平,王达佐
地址: 韩国庆*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及包含30-99wt%的去离子水、0.1-50wt%的金属氧化物粉末和0.01-20wt%的环胺的抛光组合物。该抛光组合物可用于制备集成电路用的薄膜进行化学机械抛光,并具有抛光后在薄膜上留下的微小划痕减至最少的效果。因此它可应用于高度集成电路如浅槽隔离的制备工艺。
搜索关键词: 抛光 组合
【主权项】:
1.一种抛光组合物,由30-99wt%的去离子水、0.1-50wt%的金属氧化物粉末和0.01-20wt%的环胺组成,其中所述的环胺是选自由2-吡咯烷酮、吡咯烷、3-吡咯烷醇、3-吡咯啉、2-氧-1-吡咯烷乙酸甲酯、N-甲基吡咯烷酮和N-甲基吡咯烷所组成的组中的至少一种物质;其中所述的金属氧化物为选自由二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、二氧化铈(CeO2)、二氧化锆(ZrO2)和二氧化钛(TiO2)所组成的组中的至少一种物质。
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