[发明专利]利用等离子体处理大面积衬底基片的系统

摘要

一个用于处理大面积衬底基片的等离子体系统(10)。在一个实施例中,该系统包括多个射频等离子体源(40),它们被可拆卸地连接在处理腔(14)的射频可透过的窗(26)上。源的数量和分布是可以变化的,以提供处理衬底基片所需要的尺寸大小和均匀性的等离子体场。许多等离子体探针(74),例如朗谬尔探针、法拉弟凹坑和光学传感器被放置在腔内,并与等离子体源以电连接的方式,调节各个源所产生的射频场,以保持所需要的场的均匀性程度。

主权项

1、一种利用等离子体处理衬底基片的系统，所说的系统包括：一个真空腔，在所说的腔的表面上有多个射频可透过的窗；一个射频发生器；至少两个等离子体源，每个所说的等离子体源都与所说的射频发生器电连接，并被并置于所说的许多射频可透过的窗中相应的一个上。