[发明专利]相移掩模

摘要

一种相移掩模能够利用中间色调型掩模形成的图形除掉由于０°相位的光和１８０°相位的光相遇产生的寄生图象。该相移掩模包括具有透光部分和遮光部分的光刻胶膜图形，用于改变通过光刻胶膜图形透光部分的光相位的相移层，用于除掉由于主光波形相对的两边光的衍射而形成的光的主要波形不需要成分的辅助图形，该辅助图形包括用于把入射在其上的光的相位改变到０°的透光层。

主权项

1、一种相移掩模，用于在光刻胶膜上形成图案，其包括：一个透明衬底(1)；一个遮光层(2)，其设置在所述透明衬底(1)上，以形成一个所述透明衬底(1)上的主透光部分，用于传输主光波形；和一个相移层(3)，其设置在所述遮光层(2)上，适合于使仅通过遮光层(2)的光产生相移；其特征在于，所述遮光层(2)还形成一个所述透明衬底上的辅助透光部分(10)，由所述辅助透光部分(10)传输的光去除主光波形的相对两边形成的衍射光成分。