[发明专利]具有隔离晶体管的EEPROM单元及其制造与操作方法无效
申请号: | 95103807.9 | 申请日: | 1995-03-31 |
公开(公告)号: | CN1038080C | 公开(公告)日: | 1998-04-15 |
发明(设计)人: | 张寇民;丹尼·派克-纯·叔曼;张扩堂 | 申请(专利权)人: | 摩托罗拉公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种EEPROM单元(40)包括浮栅晶体管(47)和一隔离晶体管(45)。浮置栅极(48)和隔离栅极(46)两者都形成在单元内的隧道介质层(44)上。该隔离栅极耦联到浮栅晶体管的掺杂源区(52)。单元编程操作中不给隔离晶体管加偏压,而使单元内两栅极所有部分之下的薄隧道介质层(小于120埃)启动。于是,不需要常规的隧道介质层和栅极介质层。该单元容许过擦除,能以低编程电压编程,并因此薄隧道介质遍及整个单元而具有良好的电流驱动能力。 | ||
搜索关键词: | 具有 隔离 晶体管 eeprom 单元 及其 制造 操作方法 | ||
【主权项】:
1.一种电可擦除的可编程只读存储单元(40),具有一个半导体衬底(42);一形成在所述衬底上的隧道介质层(44);以及一个具有一浮置栅极(48)和重叠在所述浮置栅极上的控制栅极(58)的浮栅晶体管(47),其中所述浮置栅极形成在所述隧道介质层上;其特征在于:一个具有一形成在所述隧道介质层上的隔离栅极(46)的隔离晶体管(45);其中,在单元内的所述隧道介质层在浮置栅极和隔离栅极之下的厚度均匀,且其中所述厚度小于约120埃。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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