[发明专利]苯基烷酸衍生物的制造方法无效
| 申请号： | 92109051.X | 申请日： | 1992-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN1033086C | 公开（公告）日： | 1996-10-23 |
| 发明（设计）人： | 齐田胜;井上寿孝;别府孝一;八谷昭美;篠原郁夫;谷口恭章;出口芳树;滨口芳浩 | 申请（专利权）人： | 久光制药株式会社 |
| 主分类号： | C07C59/88 | 分类号： | C07C59/88;C07C59/86;C07C59/56;C07C59/54;C07C69/73;A61K31/19;A61K31/215 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 下式及下式[在上述二式中，n表示1或2的整数，X表示卤原子、烷基或硝基，R表示氢原子或烷基，Z表示氢原子或乙酰基]所表示的新苯基烷酸衍生物、该衍生物的制造方法、衍生物光学异构体的分离方法、以及含有该衍生物的抗炎症剂、镇痛剂及外用制剂。 | ||
| 搜索关键词： | 苯基 衍生物 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.由下式(1)所示的苯基烷酸衍生物的制造方法。[式(1)中，n1为1或2的整数，X1表示卤素原子、烷氧基或硝基。R1表示氢原子或烷基，R2表示氢原子或低级烷基]，其特征在于使下述式(3)和式(4)所示的化合物在惰性溶剂中反应后，将该反应制得的生成物用酸处理，[式(3)、(4)中，n1表示1或2的整数，X1表示卤原子、烷氧基或硝基，R2表示氢原子或低级烷基，Y1表示卤原子，A1表示CN、CONH2或COOR1(R1为氢原子或烷基)]。
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式中，R1和R2表示卤原子、或取代或者非取代苯基，卤原子选自氯原子、溴原子、氟原子、碘原子，取代苯基上的取代基为卤原子、羟基、取代或者非取代低级烷基、低级烷硫基、低级烷氧基、硝基、氨基或羧基。
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- 下式及下式[在上述二式中，n表示1或2的整数，X表示卤原子、烷基或硝基，R表示氢原子或烷基，Z表示氢原子或乙酰基]所表示的新苯基烷酸衍生物、该衍生物的制造方法、衍生物光学异构体的分离方法、以及含有该衍生物的抗炎症剂、镇痛剂及外用制剂。
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