[其他]压接触GTO-可控硅整流器无效

专利信息
申请号: 87105600 申请日: 1987-07-30
公开(公告)号: CN1003203B 公开(公告)日: 1989-02-01
发明(设计)人: 安德烈·杰克林;蒂博尔·帕科西;沃尔夫冈·齐默曼 申请(专利权)人: BBC勃朗·勃威力有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L21/60;H01L23/48
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 吴秉芬
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在采用直接压接件的GTO——可控硅整流器情况下,由于对半导体片(2)和压接件(1,3)的表面平整度、对压接件(1,3)的对中,以及对其边缘的安排提出了特殊的要求,从而制成了一个具有极好负荷变换稳定性,可实用的构件。
搜索关键词: 接触 gto 可控 硅整流器
【主权项】:
1.压接触GTO-可控硅整流器,包括a)一个安装在阴极面同阳极面之间,具有各种不同掺杂层的半导体片(2),b)所述半导体片(2)至少在阴极面处做成台面形,并具有由多个凸起的阴极凸台(7)的栅设-阴极结构,这些阴极凸台被深处的栅极区包围,以及c)半导体片(2)在其阴极凸台(7)上总是复盖着一层金属化阴极层(6),阳极面处总是复盖着一层金属化阳极层;并带有d)一个阴极面的片形压接件和一个阳极面的片形压接件(1、3),这些片形压接件被压在阴极层及阳极层上,以实现接触连接,其特征在于e)压接件(1,3)与半导体片(2)的压力荷载接触面上的平面偏差小于±5微米,和f)压接件(1,3)相互对准,以使它们中心轴之间的相互偏差小于500微米。
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