[其他]真空化学反应设备无效
| 申请号: | 86105600 | 申请日: | 1986-07-25 |
| 公开(公告)号: | CN86105600A | 公开(公告)日: | 1987-02-04 |
| 发明(设计)人: | 麻莳立男 | 申请(专利权)人: | 日电阿尼尔瓦株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/50;H01L21/302 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 吴大建,全菁 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 在一种真空化学反应设备中,许多挂片座是从一挂片架径向地伸展出来的。大量的基片安置在各个挂片座的几乎整个表面上。每一个挂片座的形状,从正视图上看是一多边形。 | ||
| 搜索关键词: | 真空 化学反应 设备 | ||
【主权项】:
1、一种真空化学反应设备,包括:在真空条件下可存放许多待处理物件的真空室;把真空室内部的压力抽空到一预定的低压力值的抽气装置;抽气装置完成抽空操作后,把一种反应性的气体导入真空室内,以便各个物件的表面能进行化学反应的导气装置;将许多物件保持在真空室内的物件保持装置;将在真空室外的许多物件运送到位于真空室内的物件保持装置的传输装置,其特征是:该物件保持装置包括挂片架和从挂片架上伸展开来的许多挂片座,挂片座上有许多保持物件的支承构件,以让大量物件基本上挂满挂片座的几乎整个表面;该挂片架可在真空室内移动,利用这一移动,至少有两个被该物件支持构件所支承的物件,可被输送过既定的基本上是相同的平面;接受来自该物件支承构件上至少两个基本上是位于相同平面上的物件,并将其送到输送装置去的装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





