[其他]真空化学反应设备

权利要求书

1、一种真空化学反应设备，包括：

在真空条件下可存放许多待处理物件的真空室；

把真空室内部的压力抽空到一预定的低压力值的抽气装置；

抽气装置完成抽空操作后，把一种反应性的气体导入真空室内，以便各个物件的表面能进行化学反应的导气装置；

将许多物件保持在真空室内的物件保持装置；

将在真空室外的许多物件运送到位于真空室内的物件保持装置的传输装置，

其特征是：

该物件保持装置包括挂片架和从挂片架上伸展开来的许多挂片座，挂片座上有许多保持物件的支承构件，以让大量物件基本上挂满挂片座的几乎整个表面；

该挂片架可在真空室内移动，利用这一移动，至少有两个被该物件支持构件所支承的物件，可被输送过既定的基本上是相同的平面；

接受来自该物件支承构件上至少两个基本上是位于相同平面上的物件，并将其送到输送装置去的装置。

2、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座具有做为电极的另一功能，并在真空化学反应设备内利用放电反应。

3、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座具有作为加热器的另一功能，而真空化学反应设备是用作化学汽相沉积设备。

4、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片架是按直线方式传输的。

5、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片架是可绕一既定的轴旋转的。

6、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座的形状基本上是彼此相同的，而且成盘状的形式。

7、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座的形状基本上是彼此相同的，而且成矩形的形式。

8、根据权利要求6的真空化学反应设备，其中该盘状的挂片座是从该挂片架径向地伸展出来的。

9、根据权利要求7的真空化学反应设备，其中该矩形的挂片座是从该挂片架径向地伸展出来的。

10、根据权利要求6的真空化学反应设备，其中该盘形的挂片座是从该挂片架伸展出来的，并且彼此相平行。

11、根据权利要求7的真空化学反应设备，其中该矩形的挂片座是从该挂片架伸展出来的，并且彼此相平行。

12、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座的形状基本上是彼此相同的，而且成矩形柱状。

13、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座的形状基本上是彼此相同的，而且成圆柱状。

14、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是电子元件。

15、根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是光学元件。