[其他]用于真空沉积镀层的方法和装置无效
| 申请号： | 85107585 | 申请日： | 1985-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN85107585A | 公开（公告）日： | 1987-05-06 |
| 发明（设计）人： | 古川平三郎;和气完治;下里省夫;柳谦一;加藤光雄;和田哲义;筑地宪夫;爱甲琢哉;橘高敏晴;中西康二 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社;日新制钢株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 姚珊 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于真空沉积镀层的方法和装置，包括使用一种真空沉积镀层装置。该装置具有分别设在真空沉积镀层室前面和后面的两个真空密封装置及两个不活泼气体置换室，用于将不活泼气体从两个真空密封装置的真空室循环到二者的大气压力室；及用于从不活泼气体中分离出水、油和氧的不活泼气体循环/纯化装置。上述方法和装置的特点为分别将纯化后不活泼气体中氧和氢的浓度调整为60ppm或更少和0.2～2.0％，将不活泼气体的露点调整为-50℃或更低。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 沉积 镀层 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于真空沉积镀层的方法，包括使用真空沉积镀层的装置，该装置包括：设在真空沉积镀层室前面的一入口侧真空密封装置，设在上述入口侧真空密封装置和一退火炉之间的一入口侧不活泼气体置换室，设在上述真空沉积镀层室后面的一出口侧真空密封装置，设在上述出口侧真空密封装置与大气之间的一出口侧不活泼气体置换室，用于使不活泼气体从上述两个真空密封装置的真空室循环到上述两个真空密封装置的大气压力室、及用于从不活泼气体中分离出水、油和氧的不活泼气体循环/纯化装置；上述用于真空沉积镀层的方法，其特征为，将纯化后不活泼气体中氧的浓度调整为60ppm或更低，氢的浓度调整为0.2～2.0%，将不活泼气体的露点调整为-50℃或更低。
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