[其他]用于真空沉积镀层的方法和装置

说明书

本发明涉及的是一种用于真空沉积镀层的方法及装置。

论及到的真空沉积镀层的设备，是为了达到防止灰尘及类似物从大气中侵入真空室的目的。已经提出了从大气压力下逐渐降低真空室压力的设备，用来逐渐地形成真空状态，同时，充有大气中不活泼气体的室布置在退火炉和真空室之间。（见日本专利公开号6576/1969和日本专利临时公开号85742/1978）。

在真空沉积镀层工作的过程中，涂于钢带上的金属镀层的粘着强度必须达到这样的要求：既使是在苛刻的工作条件下，例如承受180°的弯曲，甚至是180°的反复弯曲及类似情况，均不会出现剥落、裂纹和粉沫状况。为了满足这种要求，钢带需要进行低温退火，并在氢气含量为5～75%的气体中进行还原，以便使钢带的表面很活泼，当在这个活泼的表面上进行真空沉积镀层时，钢带的金属镀层上即可获得足够的粘着强度。这就是说，如果把钢带送至真空沉积室，在活泼表面状态下通过真空沉积室，就能够获得上面提到的目的。

刚刚描述的常规过程，其目的在于提供一个高压室来防止灰尘和其它类似物侵入真空室，但仅凭这种结构并不能提供真空镀层的产品，即前面所要求的产品。这就是说，当钢带在其中被退火并还原的低温退火炉（具有大气压力加5至10mm水柱）与真空室直接连接时，低温退火炉中的氢气（含量为5～75%）遂经过真空室排出。如果真空室破裂，空气（含有氧气）侵入真空室，则很有可能发生爆炸。因此，所提出的设想不能在工业领域中应用。

正是由于此种原因，采用了下述的其它措施：在退火炉和真空室之间配置一个氮气置换室，并将氮气（N₂气体）引入氮气置换流室，取代其中的氢气，因而氮气可由真空室排出，并可避免爆炸的危险。然而，在这种通常的方法中，氮气（N₂）却白白地从系统中排放掉，这势必导致材料成本大大地增加。

因此，本发明的目的是提供一种真空沉积镀层的方法，以便能够解决上面提到的问题，而且不影响退火炉、真空室和实行新方法的真空沉积镀层装置的固有作用。

这就是说，本发明涉及到一种用于真空沉积镀层的方法，它包括使用一种真空沉积镀层的装置，该装置包括：设在真空沉积镀层室前面的入口侧真空密封装置，设在入口侧真空密封装置和退火炉之间的入口侧不活泼气体置换室，设在真空沉积镀层室后面的出口侧真空密封装置，设在出口侧真空密封装置和大气之间的出口侧不活泼气体置换室，用于使不活泼气体从两个真空密封装置的真空室至两个真空密封装置的大气压力室进行循环、及用于从不活泼气体中分离出水、油和氧的不活泼气体循环/纯化装置;以上所述真空沉积镀层的方法，其特征在于，将纯化后不活泼气体中氧的浓度调节至60ppm或更低，氢的浓度调节至0.2～2.0%，并调整不活泼气体的露点至-50℃或更低。

更进一步说，本发明涉及到用于真空沉积镀层的方法，它包括使用一种真空沉积镀层的装置，该装置包括：设在真空沉积镀层室前面的入口侧真空密封装置，设在入口侧真空密封装置与退火炉之间的入口侧不活泼气体置换室，设在真空沉积镀层室后面的出口侧真空密封装置，设在出口侧真空密封装置与大气之间的出口侧不活泼气体置换室，用于使不活泼气体从两个真空密封装置的真空室至两个真空密封装置的大气压力室进行循环、及用于从不活泼气体中分离出水、油和氧的不活泼气体循环/纯化装置;上述真空沉积镀层的方法，其特征在于，分别把退火炉中的压力P₁调节至大气压力或更高，把入口侧不活泼气体置换室的压力P₂调节至大气压力或更高，把出口侧不活泼气体置换室的压力P₃调节至大气压力或更高，把P₁、P₂的差值P₁-P₂控制到0mm水柱或更高，把入口侧不活泼气体置换室中氢气浓度控制到2.0%或更少。