[其他]一种间接耦合的硅光敏器件无效

专利信息
申请号: 85100228 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN85100228B 公开(公告)日: 1987-07-15
发明(设计)人: 何民才 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H01L31/10 分类号: H01L31/10
代理公司: 武汉大学专利事务所 代理人: 龚茂铭
地址: 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种新结构的硅光敏器件。它与普通硅光敏器件不同,不是把输出光电流的二极管、三极管或达林顿结构晶体管直接做在接受入射光的PN结(简称受光PN结)上,而是把它们做在这个结的邻侧,抽取受光PN结的注入电流输出或放大后输出,由此组成一个光敏器件。这种结构能够避免受光PN结面积大造成硅光敏器件电特性差和成品率低等缺点,也为制造暗电流小、击穿电压好的新型硅光敏器件开辟了一条道路。
搜索关键词: 一种 间接 耦合 光敏 器件
【主权项】:
1.一个由平面工艺制作的间接耦合硅光敏器件,它由受光PN结(11)、隔离区(12)和输出器件区(13)组成。其特征在于所说的受光PN结(11)和输出器件区(13)被隔离区(12)分子;所说的受光PN结(11)处于开路状态。
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