[实用新型]一种提高涂层均匀性的真空镀膜托盘有效
| 申请号： | 202320215807.1 | 申请日： | 2023-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN219315057U | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 李阳 | 申请（专利权）人： | 广东中科迈格科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火炬开发区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种提高涂层均匀性的真空镀膜托盘，包括上表面向内凹陷形成有放置槽的底座，以及连接于所述底座上的吸附板；其中，所述底座中形成有所述放置槽的外侧沿周向方向向上凸起形成为围边；所述吸附板连接于所述围边上，且所述吸附板的上端面凸出于所述围边的上端面。本实用新型通过底座和吸附板的协同配合，当负偏压加载时，基于底座和吸附板的直接连接，使得二者具有相同的负电位，在镀膜过程中，吸附板可对成膜粒子起到吸附作用，并诱导成膜粒子在放置槽的边缘区域出的钕铁硼磁体表面沉积，从而提高涂层的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 涂层 均匀 真空镀膜 托盘 | ||
【主权项】：
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