[实用新型]一种提高涂层均匀性的真空镀膜托盘

权利要求书

1.一种提高涂层均匀性的真空镀膜托盘，其特征在于，包括上表面向内凹陷形成有放置槽(11)的底座(1)，以及连接于所述底座(1)上的吸附板(2)；其中，

所述底座(1)中形成有所述放置槽(11)的外侧沿周向方向向上凸起形成为围边(12)；

所述吸附板(2)连接于所述围边(12)上，且所述吸附板(2)的上端面凸出于所述围边(12)的上端面。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，至少一组相对设置的所述围边(12)的上端面部分向内凹陷形成有卡槽(13)，所述吸附板(2)可插接地设置于所述卡槽(13)中。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述吸附板(2)包括插接于所述卡槽(13)中的插接段(21)，以及连接于所述插接段(21)且背离所述底座(1)向上延伸的吸附段(22)，且所述吸附段(22)的延伸方向与竖直方向之间形成有夹角。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述夹角不小于30°，且所述吸附段(22)自靠近所述插接段(21)的一端至远离所述插接段(21)的一端斜向外延伸。

5.根据权利要求3或4所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述插接段(21)与所述吸附段(22)为一体结构。

6.根据权利要求1-4中任意一项所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述放置槽(11)的高度不大于放置于所述放置槽(11)中的待加工件(3)的高度的1/2。

7.根据权利要求2-4中任意一项所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述吸附板(2)中远离所述底座(1)的一端与所述围边(12)的上端面在竖直方向上的距离不大于待加工件(3)的高度的3倍。

8.根据权利要求1-4中任意一项所述的一种真空镀膜托盘，其特征在于，所述底座(1)为铝合金材料，所述吸附板(2)为不锈钢材料。