[实用新型]一种MPCVD设备用气体均流装置

摘要

本实用新型提供一种MPCVD设备用气体均流装置，包括腔室，在所述腔室的顶部设有若干进气口；在腔室的底部设有若干出气口；并在所述腔室内部设有导流环，所述导流环被构置在水冷台的外侧，且所述进气口和所述出气口都设置在所述导流环的内侧。本实用新型一种MPCVD设备用气体均流装置，可有效约束反应气体在腔室中的扩散范围，均衡气体在基片周围的流通，增强反应气体在腔室内的均匀分布，促使气体均流，并可提升腔室内的压强。