[发明专利]键合片的分离装置及其分离方法有效

专利信息
申请号: 202311062453.2 申请日: 2023-08-23
公开(公告)号: CN116782738B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 张向鹏;王晓宇;郭超;母凤文 申请(专利权)人: 青禾晶元(晋城)半导体材料有限公司
主分类号: H10N30/01 分类号: H10N30/01;H10N30/00;H01L21/67
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 刘麒
地址: 048000 山西省晋城市晋城经济技*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种键合片的分离装置及其分离方法,涉及半导体芯片制造技术领域。键合片包括支撑衬底和压电材料衬底,压电材料衬底包括余料衬底和薄膜层,薄膜层位于支撑衬底和余料衬底之间,键合片的分离装置用于将余料衬底与薄膜层分离,键合片的分离装置包括分离器、支撑台和压杆,分离器内设有分离腔。支撑台设于分离腔内,支撑台内设置有加热器,支撑台用于支撑键合片,并对键合片加热。压杆可移动的设置于分离器上,压杆包括压头,压头与支撑台相对设置,且压头具有冷却功能,压杆能移动至压头与余料衬底抵接,压头用于对余料衬底施加压力和冷却。使用该键合片的分离装置实现了压电材料衬底的重复利用,降低了成本。
搜索关键词: 键合片 分离 装置 及其 方法
【主权项】:
暂无信息
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