[发明专利]一种微透镜的制作方法、制作系统及微透镜在审
申请号: | 202311038331.X | 申请日: | 2023-08-17 |
公开(公告)号: | CN116774327A | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | 刘建;冯英雄;郭春祥;韩远征;汪鑫;任舟逸;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B1/02;H01S5/00;H01S5/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请提供一种微透镜的制作方法、制作系统及微透镜,可以提供第一砷化镓层,第一砷化镓层上覆盖图案化的掩膜层,掩膜层覆盖部分第一砷化镓层,可以利用工艺气体对第一砷化镓层和掩膜层进行电感耦合等离子体刻蚀,第一砷化镓层和掩膜层的厚度均减小,直至将掩膜层完全去除,可以得到图案化的第二砷化镓层,其中工艺气体由以脉冲模式输出的射频源电离为等离子体,这样能够获得高速率、缺陷少且平滑的砷化镓微透镜,并且,采用干法刻蚀的方法,可以缩短工艺周期,比湿法刻蚀具有更高的再现性,并且具有许多更容易控制的参数,有利于工业化生产,此外,加工精度较高,具有良好的各项异性,还能减少不必要的材料损耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 透镜 制作方法 制作 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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