[发明专利]饱和吸收体的制备方法、饱和吸收体及短腔可调谐激光器在审

专利信息
申请号: 202310781173.0 申请日: 2023-06-29
公开(公告)号: CN116526277A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 请求不公布姓名;张恩慈 申请(专利权)人: 深圳市柏金科技有限公司
主分类号: H01S3/113 分类号: H01S3/113
代理公司: 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙) 44357 代理人: 张琪
地址: 518000 广东省深圳市坪山区龙田街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及可调谐激光器技术领域,涉及饱和吸收体的制备方法、饱和吸收体及短腔可调谐激光器。制作方法,包括:将碳纳米材料镀膜的形式附着在第一光纤的裸光纤端面上;通过镀膜的方式将匹配胶附着在第二光纤的单模光纤的裸光纤端面上,将镀有碳纳米材料的有源光纤的端头与镀有匹配胶单模光纤的端头相互靠近设置,再通过冷接子将靠近的两个端头封装得到所需的饱和吸收体。本实施例中,通过饱和吸收体的制备方法所制作得到的饱和吸收体,能够确保碳纳米材料与光纤的结合稳定,也有效的解决插损值过大的问题,同时封装后的饱和吸收体更加可靠稳定。
搜索关键词: 饱和 吸收体 制备 方法 短腔可 调谐 激光器
【主权项】:
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