[发明专利]饱和吸收体的制备方法、饱和吸收体及短腔可调谐激光器

权利要求书

1.一种可饱和吸收体的制作方法，其特征在于，具体步骤，包括：

将碳纳米管放置在酒精溶液中，并将酒精溶液中加入超声波水溶液中，保持超声波工作一段时间，获取碳纳米管溶解液；

将第一光纤具有裸光纤的一端放置到碳纳米管溶解液中，保持一定时间使得裸光纤的光纤端面具有镀碳层，获得镀膜第一光纤；

将第二光纤具有裸光纤的一端放置到匹配胶中，保持一定时间使得裸光纤具有匹配胶层，获得镀膜第二光纤；

将第一光纤有镀碳层的一端与第二光纤有匹配胶的一端放置到冷接结构内，并且调节第一光纤与第二光纤之间的距离，控制第一光纤与第二光纤之间的插损值在规定范围内，通过冷接结构进行固定，获得饱和吸收体。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述获取碳纳米管溶解液的过程中，所需要的酒精溶液为纯度为99.5%，同时超声波工作时间控制为15-25分钟。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述将第一光纤具有裸光纤的一端放置到碳纳米管溶解液中，具体步骤，包括：在所述第一光纤远离裸光纤的一端，通过单模光纤连接激光源，并且单模光纤上设置有第一光纤布拉格光栅，在裸光纤端面插入碳纳米管溶解液中时，激光源将激光打到第一光纤的裸光纤的端面上。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述将第一光纤具有裸光纤的一端放置到碳纳米管溶解液中，保持一定时间的时间控制为3-6分钟。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二光纤上设置第二光纤布拉格光栅，并且所述第二光纤远离所述第一光纤的一端设置有光功率计，用于检测插损值。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一光纤为有源光纤，所述第二光纤为单模光纤。

7.一种饱和吸收体，其特征在于，包括：

第二光纤，所述第二光纤的端头镀有匹配胶；

第一光纤，所述第一光纤靠近有匹配胶的所述第二光纤端头安装，所述第一光纤靠近所述第二光纤的端头，镀有饱和吸收体材料层；

冷接结构，所述冷接结构设置在所述第一光纤与所述第二光纤连接处，用于封装所述第一光纤与所述第二光纤连接位置。

8.根据权利要求7所述的饱和吸收体，其特征在于，所述冷接结构为壳体结构，所述冷接结构内部具有空腔。

9.根据权利要求7所述的饱和吸收体，其特征在于，所述第一光纤与所述第二光纤分别设置有第一光纤布拉格光栅和第二光纤布拉格光栅。

10.一种短腔可调谐激光器，其特征在于，所述短腔可调谐激光器包括权利要求7-9任意一项所述的饱和吸收体；

WDM波分复用器，所述WDM波分复用器与所述饱和吸收体连接；

泵浦激光器，与所述WDM波分复用器连接，用于提供激光源；

耦合器，与WDM波分复用器连接，用于接收反射的激光；

光谱仪，与耦合器连接，用于检测经过耦合器的激光波长变化；及，

光电探测器，与耦合器连接，用于检测经过耦合器的激光脉冲变化。