[发明专利]一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质在审
| 申请号： | 202310727596.4 | 申请日： | 2023-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN116482123A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 韩军;李如意;吴飞斌;黄惠玲;龙晋桓;蔡炜滨 | 申请（专利权）人： | 泉州装备制造研究所 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/958;G06T7/00;G06F17/15;G06F17/16 |
| 代理公司： | 泉州市宽胜知识产权代理事务所(普通合伙) 35229 | 代理人： | 廖秀玲 |
| 地址： | 362000 福建省泉州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明适用于精密光学元件缺陷检测技术，提供了一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质。一种光学元件表面微观缺陷检测方法，所述光学元件表面微观缺陷检测方法包括：获取光学元件表面的空间散射参数；根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵；根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷。本发明采用的入射光为偏振光，用琼斯矩阵来描述偏振光，再将琼斯矩阵转换为穆勒矩阵就能表现出散射场的散射分布和偏振状态，对光学元件表面目标的探测和检验更加准确，检测精度可达纳米级别，并且检测范围更广，可以分辨不同种类的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 表面 微观 缺陷 检测 方法 系统 设备 介质 | ||
【主权项】：
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