[发明专利]一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质

权利要求书

1.一种光学元件表面微观缺陷检测方法，其特征在于，所述光学元件表面微观缺陷检测方法包括：

获取光学元件表面的空间散射参数；

根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵；

根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷；

所述根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵，包括以下步骤：

根据空间散射参数建构关于散射场的第一琼斯矩阵

；其中，表示琼斯矩阵；表示光学元件的折射率；表示入射面的入射角；表示散射面的散射角；表示方位角；

根据所述第一琼斯矩阵求得穆勒矩阵的阵元

其中，表示穆勒矩阵的阵元，i,j=1,2,3,…；

根据Rayleigh-Rice理论模型，用偏振双向反射分布函数求出光学元件表面第一穆勒矩阵；其中，表示偏振双向反射分布函数，即所述第一穆勒矩阵；表示波长；表示功率谱密度函数。

2.根据权利要求1所述的光学元件表面微观缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷，包括以下步骤：

获取光学元件表面无缺陷区域的空间散射参数，建构第二琼斯矩阵，根据Rayleigh-Rice理论模型求得第二穆勒矩阵；

获取所述第一穆勒矩阵，将所述第一穆勒矩阵与所述第二穆勒矩阵进行对比，判断光学元件表面是否存在缺陷。

3.根据权利要求2所述的光学元件表面微观缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷，之后还要判断缺陷的类型，步骤如下：

用空间散射参数建构散射场的第三琼斯矩阵其中，表示入射场产生的相位延迟因子：；为散射场相位延迟因子：；d为缺陷粒子中心至光学元件表面距离；为s偏振光的菲涅尔反射系数；为p偏振光的菲涅尔反射系数；用所述第三琼斯矩阵求得穆勒矩阵的阵元，根据Rayleigh-Rice散射理论模型，用偏振双向反射分布函数求出第三穆勒矩阵；其中，表示所述第三穆勒矩阵；表示波长；表示脏污颗粒的折射率；比较所述第一穆勒矩阵和所述第三穆勒矩阵，判断缺陷为麻点或脏污颗粒。

4.一种光学元件表面微观缺陷检测系统，其特征在于，执行权利要求1至3中任一项权利要求所述光学元件表面微观缺陷检测方法的步骤，所述光学元件表面微观缺陷检测系统包括：

光源调制模块，用于输出入射光；

平台，用于设置光学元件；

检测模块，用于检测光学元件的散射光；

计算机设备，用于控制所述平台移动，获取入射光和散射光的参数，以及判断光学元件表面是否存在缺陷；

所述计算机设备包括：

数据获取单元，用于获取光学元件表面的空间散射参数；

矩阵转换单元，用于根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵；

判断单元，用于根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷。

5.一种计算机设备，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行权利要求1至3中任一项权利要求所述光学元件表面微观缺陷检测方法的步骤。

6.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行权利要求1至3中任一项权利要求所述光学元件表面微观缺陷检测方法的步骤。