[发明专利]一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质

说明书

本发明适用于精密光学元件缺陷检测技术，提供了一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质。一种光学元件表面微观缺陷检测方法，所述光学元件表面微观缺陷检测方法包括：获取光学元件表面的空间散射参数；根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵；根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷。本发明采用的入射光为偏振光，用琼斯矩阵来描述偏振光，再将琼斯矩阵转换为穆勒矩阵就能表现出散射场的散射分布和偏振状态，对光学元件表面目标的探测和检验更加准确，检测精度可达纳米级别，并且检测范围更广，可以分辨不同种类的缺陷。

技术领域

本发明属于精密光学元件缺陷检测技术，尤其涉及一种光学元件表面微观缺陷检测方法、系统、设备及介质。

背景技术

在精密光学元件加工过程中，如磨削、抛光等，容易在元件表面造成“麻点”等缺陷，同时脏污颗粒容易附着在裸露于空气中的光学元件。对精密光学元件来说，其表面缺陷的尺寸通常为纳米量级，如果被入射光照射到其表面缺陷，会造成很强的衍射和散射效应，从而使光束在光学系统中的传输质量大大降低，因而，光学元件的表面和亚表面缺陷的检测设备和检测技术已成为光学缺陷检测人员关注的焦点。

现有的光学元件缺陷检测技术主要有散射暗场成像、激光共聚焦显微镜、自适应滤波成像等，多数光学元件缺陷检测技术级别在微米及以上，其暗场成像检测精度低，难以区分脏污颗粒和麻点。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种光学元件表面微观缺陷检测方法，旨在解决光学元件缺陷检测精度低的问题。

本发明实施例是这样实现的，一种光学元件表面微观缺陷检测方法，所述光学元件表面微观缺陷检测方法包括：

获取光学元件表面的空间散射参数；

根据所述空间散射参数建构琼斯矩阵，将所述琼斯矩阵转换为穆勒矩阵；

根据所述穆勒矩阵判断光学元件表面是否存在缺陷。

本发明实施例的另一目的在于一种光学元件表面微观缺陷检测系统，所述光学元件表面微观缺陷检测系统包括：

光源调制模块，用于输出入射光；

平台，用于设置光学元件；

检测模块，用于检测光学元件的散射光；

计算机设备，用于控制所述平台移动，获取入射光和散射光的参数，以及判断光学元件表面是否存在缺陷。

本发明实施例的另一目的在于一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行所述光学元件表面微观缺陷检测方法的步骤。

本发明实施例的另一目的在于一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行所述光学元件表面微观缺陷检测方法的步骤。

本发明实施例提供的一种光学元件表面微观缺陷检测方法，采用的入射光为偏振光，用琼斯矩阵来描述偏振光，再将琼斯矩阵转换为穆勒矩阵就能表现出散射场的散射分布和偏振状态，pBRDF不仅可以完整地描述元件表面的光散射分布，还可以表征目标的光散射偏振特性，对光学元件表面目标的探测和检验更加准确，可达纳米级别，并且检测范围更广，可以分辨不同种类的缺陷。

附图说明

图1为本发明实施例提供的光学元件表面微观缺陷检测方法的应用环境图；

图2为本发明实施例提供的光学元件表面微观缺陷检测系统的结构图；

图3为本发明实施例提供的光学元件表面微观缺陷检测方法的流程图；

图4为本发明实施例提供的pBRDF几何示意图；

图5为本发明实施例提供的光学元件有无“麻点”时的反射穆勒矩阵光谱；

图6为本发明实施例提供的光学元件表面“麻点”和“脏污颗粒”的反射穆勒矩阵光谱；