[发明专利]单质M元素掺杂的高可靠相变材料、存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310689646.4 申请日: 2023-06-09
公开(公告)号: CN116723758A 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 程晓敏;赵鹏;曾运韬;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H10N70/00 分类号: H10N70/00;H10N70/20;H10B63/10
代理公司: 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 代理人: 胡秋萍
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开单质M元素掺杂的高可靠相变材料、存储器及其制备方法,属于微纳米电子技术领域。所述相变材料包括:母体材料和掺杂元素,所述掺杂元素为单质M元素,所述M元素为Rb、Sr或者La。本发明提出的三种单质M元素,不仅能提升相变材料非晶热稳定性,还能加速晶化过程,提升SET速度,同时减少相变材料层在相变前后的体积变化,抑制器件内的电迁移,从而实现高速、高稳定、高循环特性的综合性能。
搜索关键词: 单质 元素 掺杂 可靠 相变 材料 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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