[发明专利]一种流体研磨剂及其应用在审
| 申请号： | 202310584114.4 | 申请日： | 2023-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN116640518A | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 谈益强;魏刚;杨孝欢;魏英杰;叶玉峰 | 申请（专利权）人： | 浙江陶特容器科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B1/00;B24B37/34 |
| 代理公司： | 浙江金杜智源知识产权代理有限公司 33511 | 代理人： | 葛天祥 |
| 地址： | 314400 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请涉及抛光领域，尤其涉及一种流体研磨剂及其应用，所述流体研磨剂包括钻石研磨粉、植物油、表面活性剂、表面改性二氧化硅颗粒以及水溶性聚合物溶液；所述表面改性二氧化硅颗粒包括二氧化硅颗粒以及接枝在二氧化硅颗粒表面的羧基基团。本申请中通过各个组分之间的相互配合作用，有效降低了对于待研磨的金属工件表面的研磨难度，从而有效提升了对于待研磨的金属工件的研磨效率以及研磨质量，同时还能够防止在研磨过程中出现氧化以及进一步缺陷的产生。此外，本申请中的流体研磨剂还具有良好的稳定性，从而能够储存以及剪切作用下防止组分之间出现分离以及析出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流体 研磨剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
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