[发明专利]一种流体研磨剂及其应用

说明书

本申请涉及抛光领域，尤其涉及一种流体研磨剂及其应用，所述流体研磨剂包括钻石研磨粉、植物油、表面活性剂、表面改性二氧化硅颗粒以及水溶性聚合物溶液；所述表面改性二氧化硅颗粒包括二氧化硅颗粒以及接枝在二氧化硅颗粒表面的羧基基团。本申请中通过各个组分之间的相互配合作用，有效降低了对于待研磨的金属工件表面的研磨难度，从而有效提升了对于待研磨的金属工件的研磨效率以及研磨质量，同时还能够防止在研磨过程中出现氧化以及进一步缺陷的产生。此外，本申请中的流体研磨剂还具有良好的稳定性，从而能够储存以及剪切作用下防止组分之间出现分离以及析出。

技术领域

本申请涉及抛光领域，尤其涉及一种流体研磨剂及其应用。

背景技术

随着现代技术的不断发展，电子气体已经广泛应用于半导体制造、激光加工、电离辐射医学等领域。在这些领域中，输送气体的金属管道被广泛应用作为电子气体的储存容器。然而，钢瓶以及用于输送气体的金属管的表面粗糙度和不平整度会影响到电子气体的质量和稳定性，因此需要对钢瓶以及用于输送气体的金属管进行表面处理抛光。目前，传统的抛光方法已经不能完全满足对钢瓶以及用于输送气体的金属管表面精度的要求。

传统的抛光方法通常包含以下几种：

1.机械抛光：通过旋转的储气瓶放入抛光机中，利用摩擦力将表面磨光。虽然速度较快，但机械抛光方法存在噪音大、表面不平整度高的缺陷，同时存在抛光过程中会引入铁屑等杂质的问题。

2.化学抛光：使用化学溶液腐蚀储气瓶表面，使其表面平整度更高，但这种方法具有材料损伤大、易污染环境等缺陷，并且有可能会影响钢瓶中气体的纯度和稳定性。

3.磁流体抛光：在磁场中使用磁流体进行加工抛光。虽然磁流体抛光方法的表面磨光效果好，但目前的磁流体材料价格昂贵，使其在实际应用中难以推广。此外，磁流体抛光方法还存在工艺繁琐、费用高等问题。

综上所述，传统的抛光方法虽然在不同程度上可以改善钢瓶以及用于输送气体的金属管表面的平整度，但仍有一些局限性和问题。因此，研究开发一种高效、环保的钢瓶抛光方法具有十分重要的意义。

发明内容

本申请是为了克服现有技术中的研磨抛光手段存在抛光精度不足，同时对被抛光物体存在损伤以及存在环境污染的缺陷，提供了一种流体研磨剂及其应用。

为实现上述发明目的，本申请通过以下技术方案实现：

一种流体研磨剂，包括钻石研磨粉、植物油、表面活性剂、表面改性二氧化硅颗粒以及水溶性聚合物溶液；

所述表面改性二氧化硅颗粒包括二氧化硅颗粒以及接枝在二氧化硅颗粒表面的羧基基团。

本申请中的流体研磨剂主要包括两个部分即用于与待研磨工件接触，从而起到研磨抛光作用的磨料，以及用于对磨料提供动能从而增大磨料与待研磨工件接触力的非牛顿流体。

在本申请的所述的流体研磨剂中，所述的磨料包括钻石研磨粉以及表面改性二氧化硅。钻石研磨粉以及二氧化硅颗粒相较于金属(例如用于储存气体的钢瓶)而言具有更高的硬度，因而在与待研磨工件接触过程中起到磨削和切削金属的作用，将工件表面的粗糙度降低到所需的尺寸和表面粗糙度，从而使其表面更加光滑，提高工件表面质量。

为了更好地对待研磨物体起到研磨效果，本申请针对二氧化硅颗粒进行了一定的表面改性处理，在本申请中二氧化硅颗粒经过表面改性，从而在二氧化硅颗粒的表面接枝羧基基团，这些羧基基团带有一定的酸性，从而在表面改性二氧化硅颗粒与待研磨工件表面接触的过程中能够对待研磨工件表面起到一定的腐蚀以及软化作用，从而能够有利于对于待研磨工件的研磨抛光工作。