[发明专利]一种流体研磨剂及其应用在审

专利信息
申请号: 202310584114.4 申请日: 2023-05-23
公开(公告)号: CN116640518A 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 谈益强;魏刚;杨孝欢;魏英杰;叶玉峰 申请(专利权)人: 浙江陶特容器科技股份有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C09K3/14;B24B1/00;B24B37/34
代理公司: 浙江金杜智源知识产权代理有限公司 33511 代理人: 葛天祥
地址: 314400 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 流体 研磨剂 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种流体研磨剂,其特征在于,

包括钻石研磨粉、植物油、表面活性剂、表面改性二氧化硅颗粒以及水溶性聚合物溶液;

所述表面改性二氧化硅包括二氧化硅颗粒以及接枝在二氧化硅颗粒表面的羧基基团。

2.根据权利要求1所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

按照重量份数计,包括以下组分:

钻石研磨粉20~40份、植物油20~50份、表面活性剂5~10份、表面改性二氧化硅颗粒30~50份、水溶性聚合物溶液70~100份。

3.根据权利要求1或2所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述表面改性二氧化硅颗粒的制备方法包括以下步骤:

(1)将四烷氧基硅烷以及包含有硅氢结构的三烷氧基硅烷混合水解,得到包含有硅氢结构的二氧化硅微粒;

(2)将包含有硅氢结构的二氧化硅微粒与包含有羧基以及不饱和基团的反应物发生硅氢加成反应,从而在二氧化硅微粒表面接枝羧基,得到所述表面改性二氧化硅。

4.根据权利要求3所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述四烷氧基硅烷为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷中的任意一种;

所述包含有硅氢结构的三烷氧基硅烷为三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷中的任意一种;

所述包含有羧基以及不饱和基团的反应物包括丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、马来酸酐中的任意一种。

5.根据权利要求1或2所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述植物油为山茶油、花生油、葵花油、菜籽油、玉米油、椰油、棉籽油、亚麻籽油、大豆油、芝麻油中的任意一种或多种的混合。

6.根据权利要求1或2所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述表面活性剂包括硬脂酸盐、油酸盐、月桂酸盐中的任意一种或多种的混合物。

7.根据权利要求1或2所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述水溶性聚合物溶液为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺、羧甲基纤维素、羟甲基纤维素中的一种或多种的混合物。

8.根据权利要求1或2所述的一种流体研磨剂,其特征在于,

所述钻石研磨粉的粒径为800-1600目。

9.如权利要求1~8中任意一项所述流体研磨剂在金属表面研磨抛光中的应用。

10.一种研磨抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:

将待研磨工件固定在流体抛光机中,并将利用液压机构将权利要求1~8中任意一项所述流体研磨剂挤入待研磨工件内部,使得流体研磨剂与待研磨工件表面接触完成抛光。

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