[发明专利]一种高阶模阻尼腔及使用方法在审

专利信息
申请号: 202310570317.8 申请日: 2023-05-19
公开(公告)号: CN116669277A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 郝雪瑞;王纪科;魏耕;李健;王沛林;叶旷旷 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H05H7/18 分类号: H05H7/18;H05H7/16
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 张凯
地址: 430000*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种高阶模阻尼腔及使用方法,涉及粒子加速器技术领域,其中高阶模阻尼腔,包括:球形腔体;束管型吸收器,其包括沿球形腔体相对设置的第一束管和第二束管,第一束管、第二束管和球形腔体连通,且第一束管的直径大于第二束管的直径;多个矩形波导吸收器,其围绕第一束管倾斜设置在球形腔体上,矩形波导吸收器与球形腔体连通,且矩形波导吸收器的倾斜角度可调节。本发明可满足光源束流稳定性对高阶模提出的抑制要求,可实现高阶模的深度阻尼。
搜索关键词: 一种 高阶模 阻尼 使用方法
【主权项】:
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