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[实用新型]一种引出极弱粒子束的散射器-CN202320165939.8有效
发明人：王平;敬罕涛;蔡伟亮;于永积;张清 -专利权人：散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明涉及加速器技术领域，具体涉及一种引出极弱粒子束的散射器；一种引出极弱粒子束的散射器，包括：真空腔和安装在真空腔的转动结构，所述转动结构包括一转动体，所述转动体外侧引出有数根散射针，所述转动结构还包括转动主轴，靠近所述转动体两侧还设有两组磁流体，所述转动主轴一端设有一真空驱动电机，另一端与一线束引出结构连接；本发明大幅降低了设备的生产制造成本，且在实验准备阶段中的计算、分析难度大大降低，旋转式的结构设计也能避免主体结构在竖直方向过大，重心偏低，运行过程中更加稳定，且有利于后期的维护与安装。
一种引出粒子束散射

[发明专利]一种基于电荷交换的非线性共振引出系统-CN202211454987.5有效
发明人：阮爽;杨建成;柴伟平;刘杰;张金泉;申国栋;王耿;马桂梅;朱云鹏;蔡付成 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 2022-11-21 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明属于同步加速器技术领域，涉及一种基于电荷交换的非线性共振引出系统，包括：二极铁、四极铁、六极铁、高速加速腔体和薄膜；二极铁为若干个，若干个二极铁组成循环轨道，粒子束在循环轨道中运动；两个二极铁直接设置四极铁或者四极铁和六极铁，四极铁用于调节工作点位置，使其靠近共振线；六极铁用于引入非线性磁场激发共振；高速加速腔体设置在四极铁和六极铁之间，用于对粒子束进行加速；薄膜设置在某一二极铁内或循环轨道上，用于改变粒子束的分离高度，使发生电荷交换后的粒子从第一通道或第二通道引出。其避免了加工传统共振引出的核心部件静电偏转板，解决了引出元件占用空间大，高能束流慢引出难的问题。
一种基于电荷交换非线性共振引出系统

[实用新型]一种引出极弱粒子束流的散射器-CN202320177495.X有效
发明人：王平;敬罕涛;蔡伟亮;于永积;张清 -专利权人：散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种引出极弱粒子束流的散射器。所述引出极弱粒子束流的散射器包括包括壳体，所述壳体上设有质子通道，所述壳体内设有散射针，所述散射针延伸至质子通道内，所述壳体包括真空腔室，所述真空腔室内转动安装有散射盘，所述散射针设在散射盘上；所述质子通道上设有缺口，所述缺口与真空腔室相连通，所述散射针能够跟随散射盘由缺口转动至质子通道内；还包括驱动结构，所述驱动结构用于驱动散射盘转动。本发明提供的引出极弱粒子束流的散射器具有运行稳定、研发成本低、研发难度小的优点。
一种引出粒子束散射

[发明专利]一种用于负氢离子回旋加速器的多电荷态束流引出装置-CN202310170705.7在审
发明人：冀鲁豫;安世忠;宋国芳;纪彬;边天剑;王哲 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于负氢离子回旋加速器的多电荷态束流引出装置：在束流加速至引出能量的轨迹上，布设有质子、负氢离子、氢原子三电荷态束流引出装置；或者布设有质子束和负氢离子双电荷态束流引出装置；或者布设有质子、氢原子双电荷态束流引出装置；该三电荷态或双电荷态束流引出装置均设有由不同厚度且不同位置剥离膜组合而成的剥离靶和/或静电偏转板，该不同位置剥离膜用于在线调节各成分束流占比，该不同位置是指在束流引出的轨迹上，该多个剥离膜相互之间的前后位置不同且径向位置不同；本发明解决了现有技术只能引出单电荷态的束流，且只能在线调节各电荷态束流的总流强，而不能分别调节每种电荷态束流的流强的问题。
一种用于氢离子回旋加速器电荷态束流引出装置

[发明专利]一种质子、负氢离子、氢原子三电荷态束流引出装置-CN202310170702.3在审
发明人：冀鲁豫;安世忠;宋国芳;纪彬;边天剑;王哲 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子、负氢离子、氢原子三电荷态束流引出装置，其特点是：在束流加速至引出能量的轨迹上，布设有质子、负氢离子、氢原子三电荷态束流引出装置；该三电荷态或双电荷态束流引出装置均设有由不同厚度且不同位置剥离膜组合而成的剥离靶和/或静电偏转板，该不同位置剥离膜用于在线调节各成分束流占比，该不同厚度是指按照多电荷态束流引出的需求，将剥离膜设置为不同厚度；该不同位置是指在束流引出的轨迹上，该多个剥离膜相互之间的前后位置不同且径向位置不同。本发明解决了现有技术只能引出单电荷态的束流，且只能在线调节各电荷态束流的总流强，而不能分别调节每种电荷态束流的流强的问题。
一种质子氢离子氢原子电荷态束流引出装置

[发明专利]一种质子、氢原子双电荷态束流引出装置-CN202310170698.0在审
发明人：冀鲁豫;安世忠;宋国芳;纪彬;边天剑;王哲 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子、氢原子双电荷态束流引出装置，其特点是：在束流加速至引出能量的轨迹上，布设有质子、氢原子双电荷态束流引出装置；该双电荷态束流引出装置设有由不同厚度且不同位置剥离膜组合而成的剥离靶和/或静电偏转板，该不同位置剥离膜用于在线调节各成分束流占比，该不同厚度是指按照多电荷态束流引出的需求，将剥离膜设置为不同厚度；该不同位置是指在束流引出的轨迹上，该多个剥离膜相互之间的前后位置不同且径向位置不同。本发明解决了现有技术只能引出单电荷态的束流，且只能在线调节各电荷态束流的总流强，而不能分别调节每种电荷态束流的流强的问题。
一种质子氢原子电荷态束流引出装置

[发明专利]一种用于引出极弱粒子束的散射器-CN202310089017.8在审
发明人：王平;敬罕涛;蔡伟亮;于永积;张清 -专利权人：散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种用于引出极弱粒子束的散射器，包括一转动结构，由一转动体与一转动主轴构成，转动体外侧引出有数根散射针，转动体设于转动主轴中部，在转动主轴上靠近转动体两侧设有磁流体；一真空腔，真空腔由两块密封板构成，本发明采用旋转切束散射模式，替代了传统的散射棒插入的散射模式，在运行时无需出现急加速、急减速的状态，只需以一定转速做旋转运动即可完成预定效果，大幅降低了设备的生产制造成本，且在实验准备阶段中的计算、分析难度大大降低，旋转式的结构设计也能避免主体结构在竖直方向过大，重心偏低，运行过程中更加稳定，且有利于后期的维护与安装。
一种用于引出粒子束散射

[发明专利]一种质子束和负氢离子双电荷态束流引出装置-CN202310170775.2在审
发明人：冀鲁豫;安世忠;宋国芳;纪彬;边天剑;王哲 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子束和负氢离子双电荷态束流引出装置，其特点是：在束流加速至引出能量的轨迹上，布设有质子束和负氢离子双电荷态束流引出装置；该双电荷态束流引出装置设有由不同厚度且不同位置剥离膜组合而成的剥离靶和静电偏转板，该不同位置剥离膜用于在线调节各成分束流占比，该不同厚度是指按照多电荷态束流引出的需求，将剥离膜设置为不同厚度；该不同位置是指在束流引出的轨迹上，该多个剥离膜相互之间的前后位置不同且径向位置不同；本发明解决了现有技术只能引出单电荷态的束流，且只能在线调节各电荷态束流的总流强，而不能分别调节每种电荷态束流的流强的问题。
一种质子氢离子电荷态束流引出装置

[发明专利]一种电子束引出装置及其电子加速器-CN202211542605.4在审
发明人：刘滔;吴新凯;李华林;雷泽胜;吴昊 -专利权人：昆山钇铼电子科技有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明涉及电子束引出装置和电子加速器，该电子束引出装置包括框架，钛膜以及焊料，所述焊料位于所述框架和所述钛膜之间，所述框架为平板型结构且中部开有窗口，所述钛膜的面积大于所述框架的窗口的面积，所述钛膜完全遮盖住所述窗口，所述钛膜与所述框架在所述框架的窗口的边缘外侧形成搭接区域；其中所述焊料位于所述搭接区域并位于所述框架和所述钛膜之间，且所述焊料围绕所述窗口形成环形的一周，所述焊料使得所述框架和所述钛膜在第一焊接位置通过焊接方式紧密连接在一起形成密封结构。本发明的电子束引出装置具有可提供高真空密封、长时间可靠、适合高温烘烤、结构简化且高效率等优点。
一种电子束引出装置及其电子加速器

[发明专利]放射线治疗装置-CN202010964921.5有效
发明人：佐佐井健蔵 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种放射线治疗装置，能够在适当的定时结束带电粒子束的射出，其具备：加速器，射出带电粒子束；时间测量部，测量加速器的带电粒子束的射出时间；第1控制部，根据由时间测量部测量的射出时间而控制加速器；及射出判定部，判定在第1控制部控制加速器的期间，加速器是否射出带电粒子束，时间测量部将通过射出判定部判定为加速器射出带电粒子束的时间与加速器的带电粒子束的射出时间相加，不将通过射出判定部判定为加速器未射出带电粒子束的时间与加速器的带电粒子束的射出时间相加。
放射线治疗装置

[发明专利]同步加速器粒子分离后的引出方法及装置-CN202111523083.9有效
发明人：郑曙昕;李岩;姚红娟;王学武 -专利权人：清华大学
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种同步加速器粒子引出方法，其中，首先通过预设的信号操纵纵向相空间而从第一束团中纵向分离出预设数量的粒子或由预设数量的粒子组成的第二束团，然后以静电偏转器或者以冲击磁铁和静电偏转器将需要引出的粒子或第二束团引出同步加速器的环形轨道。本发明还涉及一种同步加速器粒子引出装置，该同步加速器粒子引出装置包括：控制单元，其适于通过设置脉冲信号在同步加速器的环形轨道内纵向分离出预设数量的粒子；和静电偏转器以及必要时的冲击磁铁，其适于将所分离出的预设数量的粒子引出同步加速器的环形轨道。
同步加速器粒子分离引出方法装置

[实用新型]用于电子束引出窗的支撑格栅结构-CN202020842518.0有效
发明人：罗德坤;李琦;严鹏程;曾利 -专利权人：四川智研科技有限公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于电子束引出窗的支撑格栅结构，包括：支撑铜板，其上设置有至少一组支撑格栅，且各组支撑格栅在空间上分别构成电子束的引出窗口；其中，各引出窗口上的支撑格栅在空间上呈弯曲状。本实用新型提供一种用于电子束引出窗的支撑格栅结构，其能够通过采用弯曲格栅结构，在不减少占空比的前提下，解决了支撑格栅随机形变产生的隐患，同时增强了格栅的抗压性能，延长了窗膜和格栅的使用寿命。
用于电子束引出支撑格栅结构

[实用新型]一种引出窗冷却风管结构装置-CN202020361440.0有效
发明人：黄伟;程永波;曹娟 -专利权人：江苏久瑞高能电子有限公司
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种引出窗冷却风管结构装置，包括扫描盒和风管结构，所述风管结构位于扫描盒的侧面并且与扫描盒连接，所述风管结构的出风端与扫描盒底端的位置相对应；所述风管结构包括圆风管、弯头风管、上段风管、中段风管、下段风管以及风嘴管道；所述圆风管、弯头风管、上段风管、中段风管、下段风管以及风嘴管道依次连通；所述弯头风管内设置有扰流曲面板，所述上段风管与中段风管之间、中段风管与下段风管之间均可拆卸式连接。本实用新型一种引出窗冷却风管结构装置，可对电子加速器的扫描盒内部的电子束所产生热量进行冷却，并且风管为分段设计，方便拆卸，同时降低风流的不均匀偏差。
一种引出冷却风管结构装置

[实用新型]一种引出窗密封结构装置-CN202020048467.4有效
发明人：曹娟;程永波;黄伟 -专利权人：江苏久瑞高能电子有限公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种引出窗密封结构装置，包括引出窗法兰和钛膜密封压板，所述引出窗法兰位于钛膜密封压板上部，所述引出窗法兰中部的射线槽与钛膜密封压板中部的中心槽的上下位置相对应，钛膜位于引出窗法兰和钛膜密封压板之间；所述引出窗法兰的底端设置有密封板，所述钛膜密封压板的顶端设置有钛膜垫板，所述钛膜的上端面和下端面分别与密封板和钛膜垫板相接触；所述引出窗法兰的底端面上设置有凹槽，所述密封板的顶端面上设置有凸起部，所述凸起部与凹槽相配合；所述钛膜密封压板上设置有缺口。本实用新型对引出窗底部的密封结构进行改进，增强密封性能，避免钛膜密封压板受热变形造成钛膜受影响和射线泄漏，同时降低加工成本。
一种引出密封结构装置

[发明专利]聚焦粒子束-CN201380062126.5有效
发明人： K.P.高尔;G.T.兹瓦特;J.范德兰;C.D.奥尼尔三世;K.Y.弗兰岑 -专利权人：梅维昂医疗系统股份有限公司
申请日： 2013-09-27 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H05H7/10 文献下载
摘要：一种示例性粒子加速器包括下列各项：粒子在其中加速的谐振腔，其中，所述谐振腔具有背景磁场，所述背景磁场具有第一形状；以及，用于接收从所述谐振腔输出的粒子的引出通道。所述引出通道包括一系列的聚焦区域以聚焦所接收粒子的束流。至少一个所述聚焦区域是构造为在磁场梯度的存在下将所述背景磁场的形状改变到第二形状的聚焦元件，所述第二形状与第一形状基本相反，所述磁场梯度是由背景磁场从所述谐振腔到引出通道的减少产生的。
聚焦粒子束

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