[发明专利]用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法在审
| 申请号： | 202310546516.5 | 申请日： | 2023-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN116655870A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王志;王卫凡;原野;生梦龙 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C08G12/40 | 分类号： | C08G12/40;B01D71/68;B01D69/14;B01D67/00;B01D53/22;C08G12/32;C08G81/00 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明涉及用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法；将聚乙烯基胺水溶液倒入丙酮至没有新的白色沉淀产生，得到聚乙烯基胺沉淀，干燥后得到白色聚乙烯基胺固体；将固体溶解在乙醇中得到聚乙烯基胺的乙醇溶液；将聚乙烯基胺的乙醇溶液和希夫碱框架混合，加入沸石分子筛，在70‑80℃下搅拌反应2‑8h，离心后得到沉淀，使用去离子水和无水乙醇洗涤沉淀并将沉淀放于真空干燥箱加热干燥至脱去溶剂，得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料。对比纯PVAm膜，CO |
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| 搜索关键词： | 用于 制备 性能 二氧化碳 分离 混合 基质 聚乙烯 改性 希夫碱 框架 材料 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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