[发明专利]用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法在审
申请号: | 202310546516.5 | 申请日: | 2023-05-16 |
公开(公告)号: | CN116655870A | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 王志;王卫凡;原野;生梦龙 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C08G12/40 | 分类号: | C08G12/40;B01D71/68;B01D69/14;B01D67/00;B01D53/22;C08G12/32;C08G81/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制备 性能 二氧化碳 分离 混合 基质 聚乙烯 改性 希夫碱 框架 材料 方法 | ||
1.用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法,其特征是包括如下步骤:
1)将聚乙烯基胺水溶液倒入丙酮至没有新的白色沉淀产生,得到聚乙烯基胺沉淀,将聚乙烯基胺沉淀干燥后得到白色聚乙烯基胺固体;
2)将白色聚乙烯基胺固体溶解在乙醇中得到聚乙烯基胺的乙醇溶液;
3)将聚乙烯基胺的乙醇溶液和希夫碱框架材料混合,在混合液中加入沸石分子筛,在70-80℃下搅拌反应2-8h,离心后得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架沉淀,使用去离子水和无水乙醇洗涤沉淀并将沉淀放于真空干燥箱加热干燥至脱去溶剂,得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征是,步骤1)中聚乙烯基胺浓度为5-10wt%。
3.如权利要求1所述的制备方法,其特征是,步骤3)中聚乙烯基胺的乙醇溶液和希夫碱框架按照质量比聚乙烯基胺:希夫碱框架为0.2-3:1。
4.如权利要求1所述的制备方法,其特征是,步骤3)中沸石分子筛在混合液中质量浓度为1-2wt%。
5.如权利要求1所述的制备方法,其特征是,步骤3)中沸石分子筛包括但不限于5A分子筛、4A分子筛或13X型分子筛。
6.权利要求1制备的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜,其特征是,将聚乙烯基胺改性希夫碱框架的粉末通过超声分散在去离子水中,并按照聚乙烯基胺改性希夫碱框架:聚乙烯基胺质量比为0.5-3:7的比例混合配制涂膜液,将涂膜液刮涂于含有硅橡胶中间层的聚砜超滤膜上,得到CO2分离混合基质复合膜。
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