[发明专利]一种石墨烯/六方氮化硼异质结的制备方法在审
申请号: | 202310424662.0 | 申请日: | 2023-04-19 |
公开(公告)号: | CN116490045A | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 张景文;张恒清;李金磊;马烁尘;刘鑫;王燕;卜忍安;侯洵 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H10K71/18 | 分类号: | H10K71/18;H10K71/80;H10K71/40;H10K77/10;H10K85/20 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 朱海临 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨烯/六方氮化硼异质结的制备方法,通过对目标基底进行清洗处理,然后将清洗后的目标基底表面改为亲水性,得薄膜能够很好平铺在基片表面,褶皱减少,在亲水性的目标基底表面设置一层六方氮化硼;在待转移的石墨烯薄膜表面旋涂一层PMMA,然后将其漂浮在去离子水中,在去离子水表面作用力下,石墨烯薄膜基于PMMA能够舒展开,然后使用表面设置有六方氮化硼的目标基底在去离子水中与旋涂有PMMA层的石墨烯薄膜贴合,从而得目标基底和石墨烯薄膜平展贴合,然后在阶梯温度下烘干加热,缩短基片与样品的间距,裂纹面积减小;最后通过退火处理,不仅减少PMMA残留,还能使得薄膜与基底接触更紧密。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 氮化 硼异质结 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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